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　　ICP質(zhì)譜儀z重要的應用是分離同位素并測定它們的原子質(zhì)量及相對豐度。測定原子質(zhì)量的精度超過化學測量方法，大約2/3以上的原子的質(zhì)量是用質(zhì)譜方法測定的。由于質(zhì)量和能量的當量關系，由此可得到有關核結(jié)構與核結(jié)合能的知識。對于可通過礦石中提取的放射性衰變產(chǎn)物元素的分析測量，可確定礦石的地質(zhì)年代。
 

　　質(zhì)譜方法還可用于有機化學分析，特別是微量雜質(zhì)分析，測量分子的分子量，為確定化合物的分子式和分子結(jié)構提供可靠的依據(jù)。由于化合物有著像指紋一樣的*質(zhì)譜，ICP質(zhì)譜儀在工業(yè)生產(chǎn)中也得到廣泛應用。
 

　　ICP質(zhì)譜儀的原理
 

　　1.利用聚焦的一次離子束在樣品表面上進行穩(wěn)定的轟擊，一次離子可能受到樣品表面的背散射，也有部分進入樣品表面，這部分離子把能量傳遞給晶格，當入射能量大于晶格對原子的束縛能是，部分原子脫離晶格向表面運動，并且產(chǎn)生原子間的級聯(lián)碰撞，當這一能量傳遞到表面，并且大于表面的束縛能時，促使表面原子脫離樣品，謂之濺射；
 

　　2.一次離子引發(fā)的濺射大部分為中性原子或分子，也有少量荷電集團，包括帶電離子、分子、原子團，按照荷質(zhì)比經(jīng)過質(zhì)譜分離；
 

　　3.收集經(jīng)過質(zhì)譜分子的二次離子，可以得知樣品表面和體內(nèi)的元素組成和分布。
 

　　ICP質(zhì)譜儀的基本組成
 

　　ICP質(zhì)譜儀的基本組成包括進樣系統(tǒng)、離子源、質(zhì)量分析器、檢測器、真空系統(tǒng)和計算機控制與數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)等。
 

　　1、進樣系統(tǒng)：將樣品送進離子源。
 

　　2、離子源：將樣品電離，得到帶有樣品信息的離子。
 

　　3、質(zhì)量分析器：將離子源產(chǎn)生的離子按m/z大小分離開。
 

　　4、檢測器：用以測量和記錄離子流強度，得出質(zhì)譜圖。
 

　　5、真空系統(tǒng)：保證離子源中燈絲的正常工作，保證離子在離子源和質(zhì)量分析器中正常運行。
 

　　6、計算機控制與數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)：通過計算機對質(zhì)譜儀進行控制，通過軟件對質(zhì)譜數(shù)據(jù)進行處理。