當(dāng)前位置:邁可諾技術(shù)有限公司>>濕法刻蝕顯影清洗機(jī)>>EDC系列濕法刻蝕顯影機(jī)>> WS-1000MLaurell 半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備
WS-1000M Wet Station半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備,全白色聚丙烯構(gòu)造,可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機(jī)及顯影機(jī),排放簡(jiǎn)便的入氮口和DI噴頭,如果需要單工的系統(tǒng),可選擇WS-1000濕法刻蝕設(shè)備,WS-1000系列旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以被配置成測(cè)試模塊構(gòu)造,安裝簡(jiǎn)便,易于拆卸,更便于操作者控制。
一、半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備功能:
● 涂敷Coating
● 刻蝕Etching
● 顯影Developing - Aqueous / Solvent
● 清洗Cleaning-Aqueous / Solvent
● 可選配, Sulfuric硫化物 / Peroxide雙氧水,溶液處理(insitu mixing)
● 可選配, HBr溶液處理
● 帶溫控的顯影功能
● 沖洗甩干
二、半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備特點(diǎn):
● 全PP材質(zhì)構(gòu)造
● 可集成Laurell勻膠旋涂系統(tǒng)
● 有排孔的濕站操作臺(tái) (易清潔)
● 特殊設(shè)計(jì)的濕站壓力系統(tǒng)Wet plenum
● 帶流量計(jì)的排液管道
● 各類組件的隔離設(shè)計(jì)(散熱原件,泵浦和壓力容器等)
三、半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備材料選擇:
可以根據(jù)應(yīng)用選擇更高級(jí)的材料;
● WS-1000-CP5 符合SEMI S93標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用在消防安全和潔凈空間等領(lǐng)域。CP5符合UL94 V-O 火災(zāi)分類標(biāo)準(zhǔn)。它具有優(yōu)良的平衡的物理性能,耐化學(xué)藥品性和耐火性。
● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合zui嚴(yán)格的FMRC 4910測(cè)試標(biāo)準(zhǔn),滿足多方面條件下的難燃性,自熄特點(diǎn)和*燃燒。這種*的材料也達(dá)到或超過(guò)產(chǎn)生低煙和zui小毒副產(chǎn)品的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)。