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半導(dǎo)體的污染雜質(zhì)和分類二

閱讀:375      發(fā)布時間:2022-2-16
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1.3  金屬

半導(dǎo)體工藝中常見的金屬雜質(zhì)有鐵、銅、鋁、 鉻 、鎢 、鈦 、鈉 、鉀 、鋰等 ,這些雜質(zhì)的來源主要有:各種器皿、管道 、化學(xué)試劑,以及半導(dǎo)體圓片加工過程中在形成金屬互連的同時,也產(chǎn)生了各種金屬污染。這類雜質(zhì)的去除常采用化學(xué)方法進(jìn)行,通過各種試劑和化學(xué)藥品配制的清洗液與 金屬離子反應(yīng)形成金屬離子的絡(luò)合物,脫離圓片表面。

1.4  氧化物

半導(dǎo)體圓片暴露在含氧氣及水的環(huán)境下表 面會形成自然氧化層。這層氧化薄膜不但會妨礙 半導(dǎo)體制造的許多工步,還包含了某些金屬雜 。

PMT-2液體顆粒計數(shù)儀采用英國普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測傳感器,雙精準(zhǔn)流量控制-精密計量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng),可以對清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測和分析,目前是英國普洛帝分析測試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測領(lǐng)域的重要產(chǎn)品。


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