單靶等離子濺射儀是一種已經(jīng)通過CE認(rèn)證的緊湊型等離子濺射儀。用于金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜。樣品直徑可達(dá)50mm,鍍膜厚度可達(dá)300埃。特別適用于SEM樣品的鍍膜。本品包括真空泵和預(yù)置一個(gè)金靶。 主要特點(diǎn)： 單靶等離子濺射儀主要特點(diǎn)如下： 1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監(jiān)控儀器狀態(tài)； 2. 濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥。在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得*鍍膜效果； 3. 特殊設(shè)計(jì)的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證*使用不會(huì)出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象； 4. 陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經(jīng)久耐用； 5. 根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。 技術(shù)參數(shù)： 單靶等離子濺射儀主要技術(shù)參數(shù)： 1、輸入電源：220V，總功率小于2000W(包括真空泵)； 2、樣品室尺寸：直徑160mm,高度120mm; 3、樣品臺(tái)：直徑50mm,可以同時(shí)給8個(gè)SEM樣品鍍膜，樣品臺(tái)高度可調(diào)。zui大均勻鍍膜區(qū)域?yàn)橹睆?5mm; 4、氣氛控制：針閥控制氣體流量，已取得更好的鍍層效果; 5、外形尺寸：長(zhǎng)400mmx寬300mmx高400mm; 6、凈重：約30公斤； 7、保質(zhì)期和證書：1年保質(zhì)期及CE認(rèn)證證書。 靶材相關(guān)： 金 – 常規(guī)SEM應(yīng)用時(shí)使用zui普遍的靶材；濺射速度快且導(dǎo)電效果。 銀 – 高導(dǎo)電性且具有高的二次電子發(fā)射率。濺射上去的銀易于去除，可使樣品成像后還原到其原來狀態(tài)。 鉑 – 在機(jī)械泵抽真空的濺射鍍膜系統(tǒng)中它的顆粒尺寸zui小，且具有優(yōu)良的二次電子發(fā)射能力。 鈀 – 用于x射線能譜分析非常理想，因其譜線分布沖突相對(duì)較低。 金/鈀合金（80:20%） - 通過限制沉積期間金顆粒的團(tuán)聚，鈀可提高zui終分辨率。 標(biāo)準(zhǔn)配件：金靶1塊 可選配件：金、銦、銀、鉑等各種靶材