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硬實(shí)力贏得現(xiàn)場(chǎng)關(guān)注韞茂科技亮相慕尼黑上海光博會(huì)

2024-03-26 15:26:07來源：化工儀器網(wǎng)關(guān)鍵詞：上海光博會(huì)閱讀量：1216

導(dǎo)讀：廈門韞茂科技有限公司憑借自身過硬的實(shí)力，在本屆光博會(huì)脫穎而出，成為焦點(diǎn)之一。

　　2024年3月20日，慕尼黑上海光博會(huì)在上海新博覽中心順利舉行。本次展會(huì)展出面積超80000平方米，邀請(qǐng)了來自全球23個(gè)國(guó)家和地區(qū)的1160家展商共聚上海，吸引了國(guó)內(nèi)外超9萬名觀眾參觀。展商及觀眾對(duì)本屆光博會(huì)都給予了高度評(píng)價(jià)。其中，廈門韞茂科技有限公司憑借自身過硬的實(shí)力，在本屆光博會(huì)脫穎而出，成為焦點(diǎn)之一。

廈門韞茂科技有限公司展位

　　廈門韞茂科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱：韞茂科技)成立于2018年，是一家以納米級(jí)薄膜沉積工藝技術(shù)為核心的多領(lǐng)域全棧式薄膜沉積方案供應(yīng)商，致力于為客戶提供全方位的技術(shù)解決方案以及先進(jìn)的納米材料薄膜沉積裝備。

　　一直以來，韞茂科技都堅(jiān)持在技術(shù)上尋求突破，專注于將前沿技術(shù)融入到產(chǎn)品生產(chǎn)中，從先進(jìn)制造國(guó)產(chǎn)化痛點(diǎn)著手，以自主創(chuàng)新打開國(guó)內(nèi)高端產(chǎn)品市場(chǎng)。目前已形成了以ALD原子層成膜系統(tǒng)、PVD物理氣相沉積系統(tǒng)、CVD化學(xué)氣相系統(tǒng)、Epitaxy外延爐等一系列薄膜沉積設(shè)備為核心的產(chǎn)品矩陣。

　　而在本次展會(huì)現(xiàn)場(chǎng)，韞茂科技重點(diǎn)展示了PBATCH批次型等離子體ALD，吸引了眾多觀眾前來咨詢與交流。

　　PBATCH批次型等離子體ALD

　　PBATCH實(shí)現(xiàn)低溫高質(zhì)量PEALD工藝，可應(yīng)用在高分子材料襯底等溫度敏感的襯底，制備氧化物、氮化物、金屬層等應(yīng)用，最大可支持多片12寸樣品。而ALD沉積速率低，限制了生產(chǎn)效率，批次性ALD可大幅提高ALD產(chǎn)能，降低客戶使用成本。

　　產(chǎn)品亮點(diǎn)

　　•全自動(dòng)、多片、大批量生產(chǎn)；

　　•批次等離子體ALD可為客戶帶來更多功能性薄膜選擇；

　　•可提高ALD產(chǎn)能，降低客戶使用成本，實(shí)現(xiàn)極致COO；

　　•可在光學(xué)薄膜沉積上實(shí)現(xiàn)設(shè)備國(guó)產(chǎn)化替代；

　　•工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)安全互鎖、報(bào)警、EMO。

　　CBATCH 300S 新型多片批次型ALD

　　多片批次式ALD，能夠?qū)崿F(xiàn)全自動(dòng)、多片、連續(xù)化生產(chǎn)，有效提高產(chǎn)能，降低COO。并且多片批次式ALD能夠?qū)崿F(xiàn)原子級(jí)別的精確控制，ALD沉積薄膜無針孔，質(zhì)量高，可作為高K值介質(zhì)層，金屬層，封裝層，電鍍種子層及其他功能層應(yīng)用，廣泛應(yīng)用于Mini/Micro LED、第三代半導(dǎo)體以及集成電路制造等領(lǐng)域。

　　產(chǎn)品亮點(diǎn)

　　•3D鍍膜實(shí)現(xiàn)原子級(jí)別精確控制

　　•高度精度、高重復(fù)性全自動(dòng)上下料傳輸

　　•全自動(dòng)、多片、連續(xù)化生產(chǎn)，有效提高產(chǎn)能，降低COO

　　•實(shí)現(xiàn)超高深寬比(1000:1)結(jié)構(gòu)的鍍膜，ALD沉積薄膜無針孔，質(zhì)量高

　　自成立以來，韞茂科技始終將實(shí)現(xiàn)客戶價(jià)值觀作為企業(yè)使命，以成本低、質(zhì)量高、品種新、服務(wù)優(yōu)、交期準(zhǔn)為專業(yè)基礎(chǔ)，以客戶為中心，主動(dòng)了解客戶需求，努力為顧客提供全面針對(duì)性的解決方案。未來公司也將繼續(xù)將目光聚焦于填補(bǔ)部分國(guó)家高端裝備的空缺，為大眾提供更好用更實(shí)惠的產(chǎn)品。

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