大會共計兩天，今日會議包含“賦能新業(yè)態(tài)，超精微納光學技術創(chuàng)造無限可能”、“納米壓印光刻的今天和明天—看微納制造技術應用及產業(yè)化” 兩個專題。
 

　　專題一：賦能新業(yè)態(tài)，超精微納光學技術創(chuàng)造無限可能
 

　　上午場會議出席嘉賓包括中國科學院光電技術研究所特聘研究員，中國光學學會光學制造專委會范斌秘書長、中山大學物理學院副院長 董建文教授、以及與光科技、新思科技、匕令科技等知名企業(yè)高層。聚焦微納光學前沿技術領域，深度探討超表面及多維光場調控、納米壓印超透鏡陣列、超表面產業(yè)化的實踐與探索、芯片化光譜成像技術等前沿熱門話題。
 

　　專題二：“納米壓印光刻的今天和明天”—看微納制造技術應用及產業(yè)化
 

　　下午的會議邀請到湖南大學粵港澳大灣區(qū)創(chuàng)新研究院院長 段輝高教授、香港理工大學工業(yè)及系統(tǒng)工程學系/超精密加工技術國家重點實驗室 王文奎博士以及天仁微納、光舵微納、EULITHA、貝瑞光電等知名企業(yè)高層，探討極端微納制造、納米壓印光刻、位移泰伯光刻技術、超光滑拋光技術等熱門話題。
 

活動現(xiàn)場
 

　　到場的參會觀眾，包括微納元器件廠商、超精密加工設備廠商、半導體材料/加工設備廠商、機器視覺廠商、鏡頭模組廠商、以及光學應用終端企業(yè)等等。
 

　　與此同時，會場周圍設置展覽展示區(qū)，共有100多家企業(yè)/品牌展出產品。展品范圍覆蓋：
 

　　新型微納元器件、超精密加工設備、半導體加工設備、工業(yè)相機、機器視覺檢測系統(tǒng)及設備、光學成像測試測量儀器、光學鏡頭及攝像模組、光學鍍膜材料及設備等，多角度展示精密光學上下游新產品新技術。
 

現(xiàn)場特設展示區(qū)
 

　　專題一：賦能新業(yè)態(tài)，超精微納光學技術創(chuàng)造無限可能
 

 

　　主辦方歡迎致辭
 

 

　　楊耕碩  Eric Yang
 

　　中國國際光電博覽會(CIOE)秘書長
 

　　中國光學學會  常務理事
 

　　楊總表示：“CIOE中國光博會作為始終深耕光電行業(yè)，助推國家光電產業(yè)發(fā)展的專業(yè)平臺，我們希望能夠充分發(fā)揮中國光博會在光電產業(yè)中的平臺和紐帶作用，增強光電行業(yè)互動，進一步促進精密光學及機器視覺產業(yè)的快速發(fā)展及其應用領域的融合。共同努力，實現(xiàn)行業(yè)發(fā)展的關鍵性突破！“
 

　　“微波光子學、生物光子學、納米光子學和拓撲光子學是幾個典型的微納光學的前沿領域，這些領域的研究成果，不僅推動了微納光學的發(fā)展，也為其他相關領域的研究提供了新的思路和方法。微納加工技術作為衡量國家高端制造業(yè)水平的重要標志之一，面對未來世界發(fā)展的舞臺，進一步提升微納技術的發(fā)展速度已迫在眉睫。
 

　　機器視覺技術使得工作設備能夠“看到”它正在進行的操作，并進行快速的決策，機器視覺與人工智能逐漸融合，引領工業(yè)4.0的過渡，擁有著不可估量的市場前景。“
 

　　成都市博覽局致辭
 

 

　　高敏
 

　　成都市博覽局 副局長
 

　　高敏副局長表示：“近年來，成都依托中科院光電技術研究所等豐富的科研資源和優(yōu)秀的產業(yè)基礎，大力發(fā)展光電產業(yè)，取得了顯著的成果。目前，成都已經聚集了一批優(yōu)質的光電產業(yè)企業(yè)和研究機構，形成了完整的產業(yè)鏈和生態(tài)圈，同時，成都深入推進會展產業(yè)建圈強鏈，強化會展與產業(yè)的一體化發(fā)展，賦能企業(yè)，積極為重點企業(yè)、重點行業(yè)搭建展示和合作交流的平臺，推動產業(yè)鏈向上下游延伸，促進相關產業(yè)的高質量發(fā)展。我們熱忱地期盼更多的企業(yè)家將投資興業(yè)的目光投向成都，到成都產業(yè)區(qū)，企業(yè)內去走走看看，感受成都美好的發(fā)展機遇和無限的可能。”
 

　　基于單片衍射元件的成像技術研究
 

 

　　范斌
 

　　中國科學院光電技術研究所 特聘研究員
 

　　中國光學學會光學制造專委會 秘書長
 

　　范秘書長重點介紹了基于端到端的消色差諧衍射透鏡設計方法。以成像鏈路各環(huán)節(jié)的傳輸和響應特性為研究對象，創(chuàng)新性提出基于衍射元件的光學—算法協(xié)同設計新思路，解決衍射元件色差大、非近軸條件下像差復雜等困擾問題，擴展了衍射光學元件設計與應用的新維度。
 

　　范秘書長表示“單片衍射元件的成像具備高科技、高效能和高質量的特征。我們希望在機器視覺未來蓬勃發(fā)展的機遇下，能夠把這個技術進一步拓展到偏振光譜、深度和相位等方面。也希望和大家聯(lián)手進一步推動單片衍射元件成像的技術發(fā)展，作為新質生產力推動產業(yè)發(fā)展。””
 

　　芯片化光譜成像技術的發(fā)展趨勢和應用前景
 

 

　　王宇
 

　　北京與光科技有限公司 聯(lián)合創(chuàng)始人/董事長/首席執(zhí)行官
 

　　(會議現(xiàn)場由王漢楠女士代為演講)
 

　　與光科技的代表從行業(yè)當前三大痛點：體積大、價格高以及成像緩慢出發(fā)，重點介紹了計算光譜這一技術路線。計算光譜將傳統(tǒng)的技術難點轉嫁到算法和算力上，突破傳統(tǒng)成像的技術限制，從而實現(xiàn)從不完整的物理測量中，盡可能多的去恢復待測物的信息。計算重建算法，進一步推動了基于超表面、量子點、納米線等新型光譜成像技術涌現(xiàn)。
 

　　此外，王總表示“當前許多方案都將探測器陣列直接和CMOS集成。
 

　　主要有四個方面的優(yōu)勢：一、能夠實現(xiàn)晶圓級的制備技術；二、具有較高的集成度，將光子器件和電子器件集成在同一個硅片上；三、成本上很有優(yōu)勢；四、也可以復用現(xiàn)有的CMOS工具來實現(xiàn)設計流程的簡化。”
 

　　納米壓印超透鏡陣列用于近眼集成成像光場顯示
 

 

　　董建文
 

　　中山大學 物理學院 副院長、教授
 

　　報告以“納米壓印超透鏡陣列用于近眼集成成像光場顯示“為題，分享了團隊在納米壓印超透鏡方面的研究心得。主要介紹了在微納超表面與計算顯示成像的相關工作，以及納米壓印以及近眼光場顯示方面的應用。
 

　　董教授提出：“超表面的光場調控精度高、光場調控自由度高，并且完全與現(xiàn)有的半導體制造工藝兼容，有著其獨特的優(yōu)勢。而納米壓印能夠滿足大面積的需要。超表面技術與納米壓印進行結合，能夠往更高精度、更大面積、更低成本的方向發(fā)展。”
 

　　從設計到半導體制程：全面探索超透鏡創(chuàng)新仿真流程
 

 

　　劉惠卿
 

　　新思半導體科技 亞太區(qū)光學解決方案技術總監(jiān)
 

　　報告講述了最前沿的超透鏡設計方法，以及考量了半導體加工的工作流程。劉總表示：“不同的超透鏡的設計工具可以幫助我們在設計的時候更容易，進入的門檻更低。如果考慮到制造工藝把半導體跟光學結合在一起的話，在設計初期的時候就可以考慮到更低制造成本的工藝技術。而且新思制造意識的超原子庫，也可以幫助我們在第一次的設計就達到正確的目標。”
 

　　超表面在產業(yè)化的探索和實踐：紅外已來，未來可見
 

 

　　錢紫衡
 

　　上海匕令科技有限公司 產品市場經理
 

　　報告以“超表面在產業(yè)化的探索和實踐：紅外已來，未來可見”為題，從超表面相對于傳統(tǒng)透鏡，甚至于衍射透鏡的優(yōu)勢對比出發(fā)，闡述了Alpha Cen在超表面技術產業(yè)化所做的努力，以及在近紅外到可見光波段，在傳感、測距到成像等領域的應用探索。
 

　　專題二：“納米壓印光刻的今天和明天”—看微納制造技術應用及產業(yè)化
 

 

　　極端微納制造及光學應用
 

 

　　段輝高
 

　　湖南大學粵港澳大灣區(qū)創(chuàng)新研究院 院長/教授
 

　　段院長以“極端微納制造及光學應用”為題，從精密制造的本質出發(fā)，探討光學制造未來的發(fā)展趨勢。同時，也從產業(yè)需求牽引以及學術前沿牽引的角度，分享了團隊目前在探索的超構材料與器件。例如：微型濾光片陣列、液晶調控動態(tài)超構表面、多維信息探測用平面透鏡等。
 

　　段院長表示“光學精密制造主要是通過我們的光學手段來完成，精密測量也需要通過光學手段來實現(xiàn)。不管是現(xiàn)在的量子技術、生物科技、生物芯片等新興產業(yè)，還是未來產業(yè)，這些新質生產力都是高度依賴于我們現(xiàn)在光學精密制造或者光學精密元件。當前我們的制造參數(shù)愈發(fā)的極端化。與此同時，多維結構以及多維材料的需求，都對制造出了大量的挑戰(zhàn)。光學精密制造最終肯定會達到原子尺度與精度的制造要求，從而達成量子功能與性能的目標。
 

　　高精度對位壓印技術與高精度步進壓印技術在微納制造中的應用
 

 

　　史曉華
 

　　蘇州光舵微納科技股份有限公司 總經理
 

　　報告介紹了納米壓印技術、步進及套刻納米壓印技術，以及其在半導體方面的應用及相關優(yōu)勢。史總表示：“壓印是一種低成本的微納圖形復制技術。可以在低成本的情況下做大量纖維非常小的結構，這是它主要優(yōu)勢。但它是工藝、設備、耗材三要素必須結合的方案型技術。”
 

　　在步進及對位納米壓印技術應用方面，史總提到當前如AR模板，超透鏡模板等的拼接制作上有幾個難點需要攻克：一、圖案傳遞的保真性；二、拼接位置的精度；三、良品率的控制等。
 

　　全國產大口徑離子束設備在微納光學中的應用
 

 

　　易洪波
 

　　博頓光電科技有限公司 副總經理
 

　　報告以“全國產大口徑離子束設備在微納光學中的應用”為主題，從離子束流操控原理、工藝設備方案和離子束鍍膜、刻蝕、減薄、拋光、應力釋放等工藝機理方面，全面介紹離子束設備及其關鍵零部件離子源的全國產化解決方案。
 

　　易總指出，離子束微納加工應用場景非常廣泛，優(yōu)勢突出，具有增、減、改三大性能?？捎行У慕鉀Q微納光學領域的一些難題，包括大口徑、曲面或者特殊材料，在超薄、超低吸收、超高均勻性等方面都有一定的優(yōu)勢。
 

　　位移泰伯光刻技術：一種光電應用的批量生產解決方案
 

 

　　王濤
 

　　北京優(yōu)利賽爾科技有限公司EULITHA 中國區(qū)銷售總監(jiān)
 

　　王總以“位移泰伯光刻技術：一種光電應用的批量生產解決方案”為題，帶來前沿光刻技術分享。該技術基于DTL技術，主要針對于光電領域，比如說二維的周期性結構應用，具有大視場、高景深、高分辨的特點。作為新的圖案設計工具，DTL技術具備更靈活的圖案加工能力。有大面積納米周期圖案需求的領域，在光的產生、傳導、 調控、 探測等領域都有廣闊的應用前景。
 

　　納米壓印光刻：微納光學結構加工解決方案
 

 

　　冀然 青島天仁微納科技有限責任公司 董事長
 

　　報告以“納米壓印光刻：微納光學結構加工解決方案”為題，闡述了納米壓印光刻的幾大優(yōu)點：一、成本低廉，可在很便宜的設備條件下，實現(xiàn)很高的結構精度；二、具有結構多樣性，可實現(xiàn)三維的光學結構；三、材料選擇限制小，可以用玻璃作為結構的載體，直接在表面壓印出光學結構，形成可以用于消費級的器件。這些優(yōu)勢都決定了納米壓印光刻在光學領域的應用。冀總還指出，目前納米壓印光刻的主要市場其中之一是消費類產品，例如手機的人臉識別、3D攝像的光學器件屏幕指紋識別、車載光學AR HUD等。
 

　　超精密加工技術及其應用
 

 

　　王文奎 博士
 

　　香港理工大學工業(yè)及系統(tǒng)工程學系 超精密加工技術國家重點實驗室 工程師
 

　　(港理工杜雪團隊)
 

　　超精密加工技術之加工精度可以達至亞微米級的形狀精度和納米級的表面粗糙度,它是當今科技創(chuàng)新的重要支撐技術之一，在光電子學、機電一體化、光學、通訊、生物醫(yī)學工程等領域都有廣泛應用。
 

　　本次報告王老師以“超精密加工技術及其應用”為題，介紹了團隊在超精密加工技術中的單點金剛石加工的一些研究工作，具體涉及一些非球面表面、微納結構表面、自由曲面表面等在多種材料上的加工實現(xiàn)，及其在新型光電產品中的應用。
 

　　超光滑拋光技術及應用探索
 

 

　　張旭川 研究員
 

　　國家科技專家?guī)?專家
 

　　成都貝瑞光電科技股份有限公司 董事長
 

　　報告從超光滑拋光技術的科學背景出發(fā)，介紹了超光滑拋光技術發(fā)展現(xiàn)狀和趨勢。
 

　　張總表示：“隨著國家發(fā)展硬核科技，超光滑拋光技術+超光滑表面光學元件會得到越來越多的重視和應用。特別是最近幾年，國內對這方面的需求明顯增加，而且出現(xiàn)在不同的領域。那怎么實現(xiàn)多技術的融合，特別是怎么用AI智慧制造，如何在材料、精密設備、精密檢測、精密鍍膜各方面進行協(xié)同創(chuàng)新，都是當前需要深度思考的問題。”
 

　　DUV光刻級合成石英研制進展
 

 

　　錢宜剛
 

　　南通晶體有限公司 總經理
 

　　(會議現(xiàn)場由馬俊逸先生代為演講)
 

　　南通晶體代表提出：合成石英具有極佳的光譜特性，優(yōu)良的耐高溫性能，化學穩(wěn)定性強，熱穩(wěn)定性好，電絕緣性好?？蓱糜谶b感衛(wèi)星用窗口和鏡頭、核技術用石英鏡頭、激光干涉儀等。當前紫外合成石英性能需求為以下六點：一、紫外高透過率；二、耐輻射性能；三、低金屬雜質含量；四、低羥基含量；五、低應力雙折射；六、高光學均勻性。
 

　　感謝以上嘉賓的精彩演講和高質量內容產出！本次大會共計舉辦兩天，明天我們即將帶來：機器視覺與人工智能擦出的火花—機器視覺賦能工業(yè)應用 和 “遇”見光學薄膜未來：光學薄膜設計、制造及應用專題演講及討論，敬請期待！