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IKN 研磨分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續(xù)運行。而普通乳化機很難做到連續(xù)長時間的運行，并且普通乳化機不能承受高轉(zhuǎn)速的運行。
半導(dǎo)體性單壁碳納米管作為一維納米材料，重量輕，結(jié)構(gòu)連接*，具有許多異常的力學(xué)、電學(xué)和化學(xué)性能。近些年隨著碳納米管及納米材料研究的深入其廣闊的應(yīng)用前景也不斷地展現(xiàn)出來。
半導(dǎo)體性碳納米管溶液性質(zhì)
直徑：1.2nm-1.7nm
長度：300nm-5μm
金屬雜質(zhì)：<1%
無定型碳：1-5%
半導(dǎo)體性碳納米管溶液應(yīng)用
復(fù)合材料，電子器件，熒光標記
半導(dǎo)體性碳納米管溶液制備難點
目前制備碳納米管的方法很多,然而這些方法所制得的產(chǎn)物中除碳納米管外常常還含有無定形碳、碳納米粒子及催化劑顆粒等雜質(zhì),這些雜質(zhì)的存在直接影響到碳納米管的性能測試及其應(yīng)用研究,因此碳納米管的純化研究十分必要與重要。而不同制備方法所得碳納米管的性質(zhì)以及所引入的雜質(zhì)都不相同,這就增加了碳納米管純化研究的難度。上海IKN/依肯公司結(jié)合該領(lǐng)域研究前沿對碳納米管的制備方法做了深入研究，根據(jù)以往實驗經(jīng)驗*使用IKN碳納米管溶液膠體磨。
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半導(dǎo)體性碳納米管溶液研磨機設(shè)備介紹：
IKN研磨機在碳納米管導(dǎo)分散中有著突出的優(yōu)勢，IKN研磨機是將膠體磨和分散機合二為一的設(shè)備，先研磨后分散，可以將碳納米管充分、均勻的分散到溶劑或樹脂當(dāng)中，避免團聚，分散更均勻、穩(wěn)定。
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
研磨分散機的特點：
1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）
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