X射線熒光鍍層厚度測量 FT9500X系列
極微小部位的薄膜?多層膜測量
通過采用新型的毛細管（X射線聚光系統(tǒng)）和X射線源，把與以往機型（SFT9500）同等強度的X射線聚集在30 μmΦ的極微小范圍。因此，不會改變測量精度即可測量幾十微米等級的微小范圍。同時，也可對幾十納米等級的Au/Pd/Ni/Cu多鍍層的各層膜厚進行高精度測量。

X射線熒光鍍層厚度測量 FT9500X系列

1. 一、極微小部位的薄膜?多層膜測量
   X射線熒光鍍層厚度測量 FT9500X系列通過采用新型的毛細管（X射線聚光系統(tǒng)）和X射線源，把與以往機型（SFT9500）同等強度的X射線聚集在30 μmΦ的極微小范圍。因此，不會改變測量精度即可測量幾十微米等級的微小范圍。同時，也可對幾十納米等級的Au/Pd/Ni/Cu多鍍層的各層膜厚進行高精度測量。

2. 二、掃描測量
   FT9500X系列通過微小光束對樣品進行XY掃描，可把樣品的鍍層厚度分布和特定元素的含量分布輸出為二維掃描圖像數(shù)據(jù)，更方便進行簡單快速的觀察。

3. 三、異物分析
    FT9500X系列通過高能量微小光束和高計數(shù)率檢測器的組合，可進行微小異物的定性分析。利用CCD攝像頭選定樣品的異物部分并照射X射線，通過與正常部分的能譜差進行異物的定性分析（Al～U）。

     四、技術(shù)參數(shù)

1. 型號	FT9500X	FT9550X
   測量元素	原子序號Al（13）～Bi（83）
   X射線源	管電壓：50（可變更）kV 管電流： 10～1000 µA
   檢測器	半導體檢測器（無液化氮）
   X射線光束照射	實際照射0.03 mmΦ
   樣品觀察	CCD攝像頭（帶變焦功能）
   對焦	激光對焦（自動）
   濾波器	Au極薄膜測量用濾波器
   樣品區(qū)域	240(W) × 175(D) mm X:220 mm, Y:150 mm, Z:150 mm	420(W) × 330(D) mm X:400 mm, Y:285 mm, Z:50 mm
   測量軟件	薄膜FP法（zui大5層）、薄膜檢量線法
   安全功能	樣品門聯(lián)鎖

   選購項

   能譜匹配軟件（材料辨別）