X射線能譜EDS
新一代的QUANTAX能譜儀采用*的 slim-line 技術(shù)，并可搭載不同有效面積的XFlash® 6探頭。而且，依托于改進的超級數(shù)模雙通道脈沖處理器，布魯克又一次為能譜儀的操作性和功能性建立了新的標準。
利用以上科技，布魯克第六代電致冷能譜儀為微米尺度甚至納米尺度的微區(qū)分析提供了迄今為止zui為快速和可靠的分析工具。

X射線能譜EDS

新一代的QUANTAX能譜儀采用*的 slim-line 技術(shù)，并可搭載不同有效面積的XFlash® 6探頭。而且，依托于改進的超級數(shù)模雙通道脈沖處理器，布魯克又一次為能譜儀的操作性和功能性建立了新的標準。

利用以上科技，布魯克第六代電致冷能譜儀為微米尺度甚至納米尺度的微區(qū)分析提供了迄今為止zui為快速和可靠的分析工具。

布魯克第六代XFlash® 探測器

種探頭面積可選

10, 30, 60 及 100 mm² 的探頭面積可選，提供微量分析及納米分析的理想解決方案

超高脈沖數(shù)據(jù)處理能力，保證zui快的測量速度

輸入計數(shù)率超過

輸出計數(shù)率超過

的能量分辨率，保證*的輕元素和低能端分析

121eV limited edition

123eV ultimate

126eV premium

129eV standard

所有能量分辨率指標均優(yōu)于 的要求

Slim-line 技術(shù)：更高的計數(shù)率，更低束流下的分析

簡潔的設計，探頭小巧輕便

探測器重量不超過

® 6 for SEM

® 6 | 10 及 6 | 30涵蓋絕大部分應用領(lǐng)域， 包括高束流分析、低電壓（納米）分析和低真空分析。而XFlash® 6 | 60 和 6 | 100 則適用于一些不常見應用領(lǐng)域，包括低束流分析和對束流極其敏感的樣品。

XFlash® 6 | 10 – *能量分辨率SDD

10 mm² 探測器具有分辨率 Mn Ka 121 eV – 業(yè)內(nèi)的能量分辨率；

XFlash® 6 | 30 – 效率超高的全面分析能手

XFlash® 6 | 60 – 大面積SDD，納米分析專家

60 mm² SDD 適用于低束流分析；

XFlash® 6 | 100 – zui大的探測面積，為低束流應用而生

100 mm² 有效面積，解決一些特殊測試需要；

® 6T for TEM

Bruker XFlash® 6T – 實現(xiàn)在 TEM 和 S/TEM 中zui大的固體角，zui大程度的減少了對電鏡在機械和電磁方面的干擾。提供*的檢出角，避免不必要的樣品傾斜。

XFlash® 6T | 30 – *適用于像差校正透射電子顯微鏡的SDD

XFlash® 6T | 60 – 固體角zui大的SDD，為埃米級別透射電子顯微鏡分析而生

60 mm²有效面積，專門適合分析中只有極低X射線產(chǎn)額的情況