新一代的粒度分析儀將成熟的SediGraph分析技術(shù)與先進(jìn)的檢測(cè)儀器功能相結(jié)合，提供的重復(fù)性、準(zhǔn)確性和重現(xiàn)性。 SediGraph III通過(guò)X射線吸收測(cè)量樣品質(zhì)量，利用標(biāo)準(zhǔn)的沉降法測(cè)量粒度，無(wú)需建模。該產(chǎn)品的技術(shù)已成為造紙、陶瓷、磨料等數(shù)個(gè)行業(yè)的金色標(biāo)準(zhǔn)。
SediGraph®Ⅲ Plus全自動(dòng)X光沉降粒度分析儀
• 儀器與配件報(bào)價(jià) • • 產(chǎn)品培訓(xùn) 
久經(jīng)考驗(yàn)的技術(shù)和可靠性
在過(guò)去的三十多年中，麥克儀器公司的SediGraph是*許多實(shí)驗(yàn)室粒度分析的標(biāo)準(zhǔn)儀器。無(wú)論是在惡劣的生產(chǎn)環(huán)境還是在專(zhuān)業(yè)的化驗(yàn)室，SediGraph憑借其的可靠性得出精確的測(cè)量結(jié)果。粒徑分布的測(cè)量采用沉降法，顆粒通過(guò)直接吸收X射線而被測(cè)量。根據(jù)Stockes定律，通過(guò)測(cè)量粒子在液體中的沉降速率，得出粒子粒徑大小，粒徑分析范圍為0.1~300μm。
- 產(chǎn)品應(yīng)用
- 軟件和數(shù)據(jù)報(bào)告
- 應(yīng)用筆記、文獻(xiàn)和參考書(shū)目
- ASTM 方法
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智能設(shè)計(jì)特色
SediGraph III Plus 粒度分析儀先進(jìn)的設(shè)計(jì)確保了測(cè)量的重復(fù)性和使用的便利性。使得儀器操作更加容易，日常維護(hù)更加簡(jiǎn)單。并且能夠確保對(duì)同一樣品，在任意一臺(tái)SediGraph儀器上都能獲得重復(fù)性*的結(jié)果。
• 高精度X光管終身保修（7年）
• 簡(jiǎn)化泵系統(tǒng)，確?？焖俜治龊鸵子诰S護(hù)
• 降低噪聲，提供更加安靜的工作環(huán)境
• 維護(hù)提醒裝置，根據(jù)總測(cè)試量，提示用戶(hù)進(jìn)行定期維護(hù)
• 電腦控制混合室溫度，提高測(cè)試可重復(fù)性
• Windows操作軟件，以太網(wǎng)連接，可進(jìn)行點(diǎn)擊式選擇菜單，聯(lián)網(wǎng)工作，打印機(jī)選擇，剪切和粘貼等操作
• 多功能和交互式報(bào)告系統(tǒng)，能夠提供多種類(lèi)型的報(bào)告，例如顆粒沉降速度和粒度（以Phi為單位）
多項(xiàng)功能
- 完整的顆粒分析，能夠確保對(duì)樣品中的所有顆粒全部進(jìn)行分析，包括粒徑大于 300μm和小于0.1μm的部分
- 能夠與其他粒徑測(cè)得的數(shù)據(jù)相結(jié)合，使數(shù)據(jù)報(bào)告范圍可擴(kuò)展至125,000μm (125mm)，在地質(zhì)學(xué)方面具有很好的應(yīng)用
- 自下而上地掃描沉降室，能夠準(zhǔn)確的獲取沉降顆粒的總數(shù)，同時(shí)zui小化顆粒分離所需的時(shí)間
- 全自動(dòng)操作模式能夠增加分析樣品總數(shù)，并且能夠減少人為操作步驟，以降低由人為操作造成的測(cè)量誤差
- 控溫分析可確保在整個(gè)分析過(guò)程中液體的性質(zhì)不發(fā)生任何變化，以獲取精確的分析結(jié)果
- 多種分析速度，可根據(jù)實(shí)際需要選擇所需的速度和分辨率
| - 實(shí)時(shí)顯示，能夠監(jiān)控當(dāng)前分析的累積質(zhì)量圖，以便根據(jù)需求立即修正分析程序
- 統(tǒng)計(jì)過(guò)程控制（SPC）報(bào)告能夠跟蹤過(guò)程性能，便于立即對(duì)變化做出響應(yīng)
- 多圖疊加功能，能夠?qū)Ψ治鼋Y(jié)果進(jìn)行可視化比較，例如：與參考樣品或基線疊加，或者將同一分析數(shù)據(jù)的兩種不同類(lèi)型結(jié)果圖疊加
- 數(shù)據(jù)比較圖，能夠提供兩套數(shù)據(jù)組（不同于參考圖）圖形顯示的數(shù)學(xué)差或某個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)高于/低于誤差范圍的程度（圖以外）
- 能夠使用同一臺(tái)計(jì)算機(jī)同時(shí)控制兩SediGraph，節(jié)約寶貴的實(shí)驗(yàn)室空間，方便數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
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