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Nicomp 380 動態(tài)光散射粒度分析儀 采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布，粒徑檢測范圍0.3nm – 10µm。粒度分析復合采用Gaussian單峰算法和擁有技術(shù)的NiComp多峰算法，對于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。
Nicomp 380 動態(tài)光散射粒度分析儀 采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布，粒徑檢測范圍0.3nm – 10µm。粒度分析復合采用Gaussian單峰算法和擁有技術(shù)的NiComp多峰算法，對于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。整機采用模塊化設(shè)計,可靈活方便地擴展Zeta電位等其它功能。
產(chǎn)品介紹：
Nicomp 380 動態(tài)光散射粒度分析儀 采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布，粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10μm。粒度分析復合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法，對于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。
產(chǎn)品介紹：
Nicomp 380 采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布，粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10μm。粒度分析復合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法，對于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。
儀器參數(shù)：
粒徑測量范圍 | 粒度分析：0.3 nm - 10 μm |
分析方法 | 粒度分析：動態(tài)光散射，Gaussian 單峰算法和 NiComp 無約束自由擬合多峰算法 |
pH值范圍 | 2 - 12 |
溫度范圍 | 0℃ - 90 ℃ |
檢測角度（可選） | 粒度分析：90°或 多角度（10°- 175°，可選配） |
高濃度樣品背散射 | 175°背散射 |
可用溶劑 | 水和絕大多數(shù)有機溶劑 |
樣品池 | 4 mL（標準，石英玻璃或有機玻璃）； 500μL（高透光率微量樣品池） |
分析軟件 | Windows 運行環(huán)境，符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件 |
電壓 | 220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz |
外形尺寸 | 56 cm * 41 cm * 24cm |
重量 | 約26kg（與配置有關(guān)）
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應用領(lǐng)域：
· 醫(yī)藥領(lǐng)域：乳劑，注射劑，脂質(zhì)體，膠體，混懸劑，滴眼液，高分子，病毒，疫苗等；
· 半導體： CMP Slurry，芯片，晶圓加工等；
· 特殊化工品：墨水&噴墨，納米材料，化工染料，潤滑劑，清洗劑等。
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