國(guó)產(chǎn)WH91磁性涂層測(cè)厚儀是一種帶線的延長(zhǎng)探頭測(cè)凹槽面更加方便了，還有一些桌面底下，窗外測(cè)不到的地方，用這種帶探頭的測(cè)量非常方便，可滿足客戶的不同需求。

國(guó)產(chǎn)WH91磁性涂層測(cè)厚儀

產(chǎn)品介紹

國(guó)產(chǎn)WH91磁性涂層測(cè)厚儀是一種帶線的延長(zhǎng)探頭測(cè)凹槽面更加方便了，還有一些桌面底下，窗外測(cè)不到的地方，用這種帶探頭的測(cè)量非常方便，可滿足客戶的不同需求。

WH91磁性涂層測(cè)厚儀產(chǎn)品特點(diǎn)

1、具有電源欠壓指示功能

2、操作過(guò)程有蜂鳴聲提示

3、能快速自動(dòng)識(shí)別鐵基體與非鐵基體

4、設(shè)有兩種關(guān)機(jī)方式：手動(dòng)關(guān)機(jī)方式和自動(dòng)關(guān)機(jī)方式;

5、有負(fù)數(shù)顯示功能，保證儀器在零位點(diǎn)的校準(zhǔn)準(zhǔn)確性;

6、采用了磁性測(cè)厚方法，適用導(dǎo)磁材料上的非導(dǎo)磁層厚度測(cè)量。導(dǎo)磁材料一般為：鋼、鐵、銀、鎳。

7、可采用單點(diǎn)校準(zhǔn)和兩點(diǎn)校準(zhǔn)兩種方法對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)，并可用基本校準(zhǔn)法對(duì)測(cè)量頭的系統(tǒng)誤差進(jìn)行修正，保證儀器在測(cè)量過(guò)程中儀器的準(zhǔn)確性;

技術(shù)參數(shù)

使用說(shuō)明

1)開(kāi)機(jī)

按下 ON 鍵后儀器聽(tīng)到一聲?shū)Q響，自動(dòng)恢復(fù)上次關(guān)機(jī)前的參數(shù)設(shè)置后，將顯示0.0μm，儀器進(jìn)入待測(cè)狀態(tài)。可測(cè)量工件了。經(jīng)過(guò)一段時(shí)間不使用儀器將自動(dòng)關(guān)機(jī)。

2)關(guān)機(jī)

在無(wú)任何操作的情況下，大約 3分鐘后儀器自動(dòng)關(guān)機(jī)。按一下“ON”鍵，立即關(guān)機(jī)。

3)單位制式轉(zhuǎn)換(公制與英制轉(zhuǎn)換)

在待測(cè)狀態(tài)下，按μm/mil可轉(zhuǎn)換其測(cè)量單位。

4)測(cè)量

a)準(zhǔn)備好待測(cè)試件

b)是否需要校準(zhǔn)儀器，如果需要，選擇適當(dāng)?shù)男?zhǔn)方法進(jìn)行(參照 4 儀器校準(zhǔn))

c)迅速將測(cè)量頭與測(cè)試面垂直地接觸并輕壓測(cè)量頭定位套，隨著一聲?shū)Q響，屏幕顯示測(cè)量值，儀器會(huì)自動(dòng)感應(yīng)被測(cè)基體：感應(yīng)到是磁性基體時(shí)儀器顯示 Fe感應(yīng)到是非磁性金屬時(shí)儀器顯示 NFe。測(cè)量時(shí)請(qǐng)始終保持儀器處于垂直狀態(tài)!提起測(cè)量頭可進(jìn)行下次測(cè)量;

校準(zhǔn)

為使測(cè)量準(zhǔn)確，應(yīng)在測(cè)量場(chǎng)所對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn)。

1 校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片(包括箔和基體)

已知厚度的箔或已知覆蓋層厚度的試樣均可作為校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片。簡(jiǎn)稱標(biāo)準(zhǔn)片。

a) 校準(zhǔn)箔

對(duì)于磁性方法， “箔”是指非磁性金屬或非金屬的箔或墊片。對(duì)于渦流方法，通常采用塑料箔。 “箔”有利于曲面上的校準(zhǔn)，而且比用有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片更合適。

b) 有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片

采用已知厚度的、均勻的、并與基體牢固結(jié)合的覆蓋層作為標(biāo)準(zhǔn)片。對(duì)于磁性方法，覆蓋層是非磁性的。對(duì)于渦流方法，覆蓋層是非導(dǎo)電的。

2 基體

a)對(duì)于磁性方法，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的磁性和表面粗糙度，應(yīng)當(dāng)與待測(cè)試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。對(duì)于渦流方法，標(biāo)準(zhǔn)片基體金屬的電性質(zhì)，應(yīng)當(dāng)與待測(cè)試件基體金屬的電性質(zhì)相似。為了證實(shí)標(biāo)準(zhǔn)片的適用性，可用標(biāo)準(zhǔn)片的基體金屬與待測(cè)試件基體金屬上所測(cè)得的讀數(shù)進(jìn)行比較。

b) 如果待測(cè)試件的金屬基體厚度沒(méi)有超過(guò)表一中所規(guī)定的臨界厚度，可采用下面兩種方法進(jìn)行校準(zhǔn)：

1) 在與待測(cè)試件的金屬基體厚度相同的金屬標(biāo)準(zhǔn)片上校準(zhǔn);

2) 用一足夠厚度的，電學(xué)性質(zhì)相似的金屬襯墊金屬標(biāo)準(zhǔn)片或試件，但必須使基體金屬與襯墊金屬之間無(wú)間隙。對(duì)兩面有覆蓋層的試件，不能采用襯墊法。

c) 如果待測(cè)覆蓋層的曲率已達(dá)到不能在平面上校準(zhǔn)，則有覆蓋層的標(biāo)準(zhǔn)片的曲率或置于校準(zhǔn)箔下的基體金屬的曲率，應(yīng)與試樣的曲率相同。

3 校準(zhǔn)方法

本儀器有三種測(cè)量中使用校準(zhǔn)方法: 零點(diǎn)校準(zhǔn)、二點(diǎn)校準(zhǔn)，還有一種針對(duì)測(cè)量頭的六點(diǎn)修正校準(zhǔn)。本儀器的校準(zhǔn)方法是非常簡(jiǎn)單的。

3.1 零點(diǎn)校準(zhǔn)

a) 在基體上進(jìn)行一次測(cè)量，屏幕顯示<×.×µm>。

b) 按 ZERO 鍵，屏顯<0.0>。校準(zhǔn)已完成，可以開(kāi)始測(cè)量了。

c) 重復(fù)上述 a、b 步驟可獲得更為精確的零點(diǎn)，高測(cè)量精度。零點(diǎn)校準(zhǔn)完成后就可進(jìn)行測(cè)量了。注：本儀器提供負(fù)數(shù)顯示，為用戶更方便的選擇零點(diǎn)。

3.2 二點(diǎn)校準(zhǔn)

這一校準(zhǔn)法適用于高精度測(cè)量及小工件、淬火鋼、合金鋼。

a) 先校零點(diǎn)(如上述)。

b) 在厚度大致等于預(yù)計(jì)的待測(cè)覆蓋層厚度的標(biāo)準(zhǔn)片上進(jìn)行一次測(cè)量，屏幕顯示<×××µm>。

c) 用▲、▲、鍵修正讀數(shù)，使其達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)值。校準(zhǔn)已完成，可以開(kāi)始測(cè)量。

注：在儀器校準(zhǔn)時(shí)，單次按將跳動(dòng)一個(gè)數(shù)，長(zhǎng)按不松開(kāi)，將連續(xù)跳動(dòng)要修正的值。

4 六點(diǎn)修正校準(zhǔn)

在下述情況下，改變基本校準(zhǔn)是有必要的:

測(cè)量頭頂端被磨損、新?lián)Q的測(cè)量頭、特殊的用途。

在測(cè)量中，如果誤差明顯地超出給定范圍，則應(yīng)對(duì)測(cè)量頭的特性重新進(jìn)行校準(zhǔn)稱為基本校準(zhǔn)。通過(guò)輸入 6 個(gè)校準(zhǔn)值(1 個(gè)零和 5 個(gè)厚度值)，可重新校準(zhǔn)測(cè)量頭，具體操作方法如下：

a) 在儀器開(kāi)啟的狀態(tài)下，按順序連續(xù)、快速按下以下按鈕，即可進(jìn)入六點(diǎn)修正校準(zhǔn);

b)先校零值。在六點(diǎn)修正校準(zhǔn)界面的一個(gè)界面，測(cè)一下沒(méi)有任何涂層的基體，然后按 ZERO 鍵，屏幕中的 ADJ 顯示 0.0µm，按 進(jìn)入下一點(diǎn)的校準(zhǔn);

c)校準(zhǔn)儀器自帶校準(zhǔn)片，把 50µm 的放到基體上，測(cè)一下 50µm 的厚度，測(cè)出來(lái)的(ADJ)數(shù)與校準(zhǔn)片的值不符按? ?調(diào)整到與校準(zhǔn)片的值一樣(如50µm 測(cè)出來(lái)是 54µm 按?調(diào)整到 50µm)， 然后按 進(jìn)入下一點(diǎn)校準(zhǔn),接著用相同的校準(zhǔn)方法依次校準(zhǔn) 100μm、250μm、500μm、1000μm 校準(zhǔn)膜片;

d)6 點(diǎn)數(shù)據(jù)調(diào)整完之后，會(huì)出現(xiàn)對(duì)話框詢問(wèn)是否保存，按 確認(rèn)保存;

e)若使用其他膜片標(biāo)準(zhǔn)，須按厚度增加的順序，一個(gè)厚度上可做多次。每個(gè)厚度應(yīng)至少是上一個(gè)厚度的 1.6 倍以上，理想情況是 2 倍。例如: 50、100、250、500、1000μm。大值應(yīng)該接近但低于測(cè)量頭的大測(cè)量范圍;

注意: 每個(gè)厚度應(yīng)至少是上一個(gè)厚度的 1.6 倍以上，否則視為基本校準(zhǔn)失敗，后面一個(gè)點(diǎn)必須大于 500μm