一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞概述：
思峻高精密細(xì)胞破壁膠體磨,細(xì)胞破壁研磨分散機(jī)，高剪切研磨分散機(jī)，研磨分散機(jī)，細(xì)胞破碎機(jī)，細(xì)胞研磨機(jī)，高剪切膠體磨，專業(yè)膠體磨，膠體磨廠家，膠體磨價(jià)格
二、細(xì)胞破壁的方式：
1.細(xì)胞破壁技術(shù)作為一種高科技手段，其應(yīng)用十分廣泛。除病毒外，一切生物均由細(xì)胞構(gòu)成，根據(jù)細(xì)胞內(nèi)核結(jié)構(gòu)分化程度的不同，細(xì)胞可以分為原核細(xì)胞和真核細(xì)胞兩大類型。細(xì)胞壁（cellwall）是細(xì)胞的外層，在細(xì)胞膜的外面，細(xì)胞壁之厚薄常因組織、功能不同而異。植物、真菌、藻類和原核生物都具有細(xì)胞壁，而動(dòng)物細(xì)胞不具有細(xì)胞壁。細(xì)胞壁本身結(jié)構(gòu)疏松，外界可通過(guò)細(xì)胞壁進(jìn)入細(xì)胞中。
2.實(shí)驗(yàn)插圖
2.細(xì)胞破壁的方法很多，按照是否存在外加作用力，可分為機(jī)械法和非機(jī)械法。
分 類 | 作 用 機(jī) 理 | 適 應(yīng) 性 |
機(jī) 械 法 | 珠磨法 | 固體剪切作用 | 可達(dá)較高破碎率，可較大規(guī)模操作，大分子目的產(chǎn)物易失活，漿液分離困難 |
高壓勻漿法 | 液體剪切作用 | 可達(dá)較高破碎率，可大規(guī)模操作，不適合絲狀菌和革蘭氏陽(yáng)性菌 |
超聲破碎法 | 液體剪切作用 | 對(duì)酵母菌效果較差，破碎過(guò)程升溫劇烈，不適合大規(guī)模操作 |
X-press法 | 固體剪切作用 | 破碎率高，活性保留率高，對(duì)冷凍敏感目的產(chǎn)物不適合 |
非 機(jī) 械 法 | 酶溶法 | 酶分解作用 | 具有高度專一性，條件溫和，漿液易分離，溶酶價(jià)格高，通用性差 |
化學(xué)滲透法 | 改變細(xì)胞膜的滲透性 | 具一定選擇性，漿液易分離，但釋放率較低，通用性差 |
滲透壓法 | 滲透壓劇烈改變 | 破碎率較低，常與其他方法結(jié)合使用 |
凍結(jié)融化法 | 反復(fù)凍結(jié)-融化 | 破碎率較低，不適合對(duì)冷凍敏感目的產(chǎn)物 |
干燥法 | 改變細(xì)胞膜滲透性 | 條件變化劇烈，易引起大分子物質(zhì)失活 |
3.細(xì)胞破壁技術(shù)是一種超微粉劑加工技術(shù)，對(duì)中藥臨床應(yīng)用是一場(chǎng)革命，中藥材細(xì)胞破壁超微粉碎后的藥效釋出，藥性變化，治療效果方面有質(zhì)的飛躍變化。一般人體細(xì)胞大小為10-100μm，中藥超微粉的顆粒細(xì)度為3-5μm，中藥材（植物及動(dòng)物）的細(xì)胞尺度為10-100μm左右。現(xiàn)常用的中藥丸劑粉末細(xì)度為150-180μm.中藥材的有效成份通常分布于細(xì)胞內(nèi)與細(xì)胞間質(zhì)，而以細(xì)胞內(nèi)為主。中藥若采用常規(guī)方式粉碎，其單個(gè)粒子常由數(shù)個(gè)或數(shù)十個(gè)細(xì)胞所組成，細(xì)胞的破壁率極低。
三、上海SGN高剪切研磨分散機(jī)結(jié)構(gòu)：
1.如果采用高剪切研磨分散機(jī)來(lái)粉碎，植物細(xì)胞的破壁率將大大提高。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
2.GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品?？梢韵葘⒅参镂锪舷妊心ィ心ゼ?xì)化后再通過(guò)分散頭，進(jìn)行分散，這樣可以避免細(xì)胞細(xì)化后抱團(tuán)現(xiàn)象，從而提高細(xì)胞的破壁率。
3.DI一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。（齒列的深度:從開始的2.7mm，到末端的0.7mm）
4.第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
四、GMD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：
1. 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
2.定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
3. 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4. 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
5. 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
五、GMD2000系列研磨分散機(jī)的設(shè)備選型表：
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3 參數(shù)內(nèi)的各種型號(hào)的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不同，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)
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