制藥無殘留GMP均質(zhì)機在納米均質(zhì)機運作的過程中,轉(zhuǎn)軸以及轉(zhuǎn)軸上各個零部件都是處于高速運轉(zhuǎn)的狀態(tài),研磨定轉(zhuǎn)子部分會帶動研磨介質(zhì)與物料產(chǎn)生強烈的碰擦與撞擊,以起到磨細物料和分散聚體的作用。

一、產(chǎn)品名稱概述：

制藥無殘留GMP均質(zhì)機,高剪切制藥均質(zhì)機,無塵無菌小型均質(zhì)機,GMP車間醫(yī)藥均質(zhì)機

二、設(shè)備的選型要點：

1、明確使用設(shè)備所需達到的效果和目的

2、詳細了解并掌握研究物料的性質(zhì)（包括物理、化學(xué)性質(zhì)）

3、根據(jù)物料對設(shè)備的攪拌機進行選型

4、再次確定設(shè)備的操作參數(shù)及結(jié)構(gòu)設(shè)計

5、綜合考慮設(shè)備的成本

制藥設(shè)備是否符合GMP要求,直接關(guān)系到生產(chǎn)企業(yè)實施GMP的質(zhì)量。SGN上海思峻設(shè)備在不斷的時間創(chuàng)新中逐漸實現(xiàn)在設(shè)計、制造、安裝及檢驗等各方面滿足醫(yī)藥領(lǐng)域。

三、高剪切均質(zhì)機工作機理及制藥過程：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）

1.目前國內(nèi)常用的剪切式均質(zhì)機線速度多為10～25 m/ s。實踐證明其均質(zhì)效果并不理想。

2.SGN高剪切均質(zhì)機指線速度達到40～66 m/ s的剪切式均質(zhì)機,其主要工作部件為多級相互嚙合的定轉(zhuǎn)子,每級定轉(zhuǎn)子又有數(shù)層齒圈.

3.混懸劑藥物制備過程為：

藥物—粉碎—（分散）分散介質(zhì)—混懸劑

4.其操作要點為：

親水性藥物：加液研磨

疏水性藥物：先將藥物與潤濕劑共研,再加液研磨

質(zhì)重、硬度大的藥物：水飛法

制備機械：膠體磨、均質(zhì)機（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）

均質(zhì)機和膠體磨相比,細化程度更好,混懸液均化穩(wěn)定性更高

5.GMP制藥無殘留均質(zhì)機是一款膠體磨和均質(zhì)機一體化的設(shè)備,先研磨均質(zhì),先將化工原料混合成流體狀漿料的大顆粒和團聚體先打開,然后再進均質(zhì)。SGN研磨均質(zhì)機在國nei多家大型藥企以及多家醫(yī)藥研究所,醫(yī)學(xué)院都有著突出的應(yīng)用。
6.在納米均質(zhì)機運作的過程中,轉(zhuǎn)軸以及轉(zhuǎn)軸上各個零部件都是處于高速運轉(zhuǎn)的狀態(tài),研磨定轉(zhuǎn)子部分會帶動研磨介質(zhì)與物料產(chǎn)生強烈的碰擦與撞擊,以起到磨細物料和分散聚體的作用。同時,物料經(jīng)過研磨后,通過泵葉的巨大吸力,使其被吸出研磨籃,然后再由分散盤對其進行分散處理,這樣就可以在很短的時間內(nèi)獲得理想的研磨效果。

7.第yi級由具有經(jīng)細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,定子可以無線制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離,在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。這樣的設(shè)計可以保障物料初始顆粒較大時,可以順暢進入超高速均質(zhì)機腔體,通過高速旋轉(zhuǎn)的經(jīng)細度遞升磨頭,zui終得到微納米級的物料顆粒。

8.第2級由轉(zhuǎn)定子組成。均質(zhì)頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子、轉(zhuǎn)子和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是：在粗經(jīng)度、中等經(jīng)度、細經(jīng)度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很zhong要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很zhong要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

四、SGN高速均質(zhì)機的技術(shù)參數(shù)：

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

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