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實驗爐 CVD 化學(xué)氣象沉積

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

促銷時間：

特價說明：

促銷詳細：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價促銷

模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

CVD化學(xué)氣相沉積爐由開啟式單（雙）溫區(qū)管式爐、高真空分子泵系統(tǒng)、壓強控制儀及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成。CVD化學(xué)氣相沉積爐可實現(xiàn)真空達0.001Pa混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴散試驗。

主要功能和特點：

1、高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成，真空可達0.001Pa；

2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力實現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制；

3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計，流量顯示儀等組成，實現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。

4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用*Swagelok卡套連接，不漏氣；

5、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用安全可靠。

主要用途：

高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD/CVI實驗，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結(jié)等場所。

主要技術(shù)參數(shù)：

SKGL-1200	控溫方式	采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能，并可編制30段升降溫程序。
	加熱元件	0Cr27Al7Mo2
	工作電源	AC220V 50HZ/60HZ
	額定功率	4KW
	爐管尺寸	Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
	工作溫度	≤1150℃
	MAX溫度	1200℃
	恒溫精度	±1℃
	加熱區(qū)長度	440mm或220mm/220mm
	升溫速度	≤20℃/min
	密封方式	不銹鋼快速法蘭擠壓密封
ZK-F	真空范圍	0.1-0.001Pa
	極限真空	4.0*10^-4Pa
	產(chǎn)品配置	雙級旋片真空泵+分子泵
	測量方式	復(fù)合真空計
	真空規(guī)管	電阻規(guī)+電離規(guī)
	冷卻方式	風(fēng)冷
	工作電源	AC220V 50/60HZ
	抽速	110L/S
ZDFC-Ⅲ	測量范圍	5～1*10^-5 Pa
	穩(wěn)壓(真空)范圍	1～5*10^-3Pa
	壓力(真空)穩(wěn)定精度）	±3%
	控制范圍	2.510^3～110^-4 Pa
	控制精度	± 1%
HQZ-Ⅲ	控制方式	D07-7K質(zhì)量流量計,D08流量顯示儀
	流量規(guī)格	0－500SCCM /0－1SLM,（可根據(jù)客戶需要配置）
	線性	±1%F.S
	準(zhǔn)確度	±1%F.S
	重復(fù)精度	±0.2%F.S.
	響應(yīng)時間	≤2sec
	耐壓	3MPa
	氣路通道	3通道（根據(jù)客戶需求）
	針閥	316不銹鋼
	管道	Φ6mm不銹鋼管
	接口	SwagelokΦ6mm