產(chǎn)品介紹
PHI Quantera II掃描XPS微探針是建基于業(yè)界榮獲多殊榮的Quantum 2000和Quantera SXM之上新研發(fā)的XPS分析儀器，其革命性的技術(shù)包括：*微聚焦X-ray源，可以得到世界小至7.5μm的聚焦X-ray；雙束電荷中和技術(shù)，即使到各位數(shù)微米區(qū)域，依然能夠有效中和樣品荷電；五軸精密樣品臺及全自動樣品傳遞手臂，可同時進樣數(shù)百個樣品；全自動支持互聯(lián)網(wǎng)遠程控制。這些革命性的技術(shù)，使XPS的應用范圍從數(shù)百微米擴展至個位數(shù)微米，同時能夠高效快速的處理各種樣品，包括導體、絕緣體、磁性樣品等。
1. 掃描式聚焦X-ray設(shè)計，使7.5μm至1.4mm的分析區(qū)域內(nèi)都可維持高性能的快速分析。
PHI Quantera II使用了PHI*的掃描聚焦式X-ray源，配合升級版的單色聚焦石英晶體，對比上一代的小X-ray束斑進一步減少20%至7.5μm。X-ray束斑從7.5μm至400μm范圍內(nèi)連續(xù)，配合掃描功能，使分析面積范圍擴充至7.5μm~1400μm*1400μm。
PHI Quantera II同時配備高收集效能的靜電式半球能量分析器，擁有大收集角度的同時，創(chuàng)新性的采用橢圓式的羅蘭圓設(shè)計，*的提高了能量分辨率。在空間分辨率、靈敏度、能量分辨率等指標上，堪稱世界較強性能XPS系統(tǒng)。配合掃描X-ray高速同步掃描，真正意義上實現(xiàn)了單點、多點、線、面分析的較強功能。
2. 高靈敏度的分析能力
PHI Quantera II掃描聚焦XPS微探針采用聚焦X-ray系統(tǒng)，在能量分析器的收集透鏡端摒棄傳統(tǒng)的光闌設(shè)計進行選區(qū)，大可能的提升了光電子的收集效率，使其遠遠高出同類產(chǎn)品在200μm以下空間尺度的靈敏度，在30μm以下分區(qū)區(qū)域時，靈敏度高出非聚集XPS達100倍以上。同時，勿需采用磁透鏡，保證了磁性樣品分析時的靈敏度及避免了由磁透鏡所帶來的荷電中和困難，即使是磁性樣品，也可輕松應對。在靈敏度提高的同時，*的提高了分析效率，縮短分析時間。
3. 占優(yōu)勢的微區(qū)分析能力
傳統(tǒng)的XPS在微區(qū)分析定位時，存在不能清晰觀察樣品的困難。PHI Quantera II通過X-ray激發(fā)樣品產(chǎn)生二次電子影像（SXI），可由二次電子影像提供分析所用的全部細微特征。二次電子影像（SXI）與采譜過程采用相同的激發(fā)源、光電子經(jīng)過相同的光學路徑、使用同一探測器進行成像及獲譜。避免了因為光學圖像上選點與分析位置的偏差，保證了所見即所得的精確分析。
微小區(qū)域的高靈敏度分析不只在于表面分析，PHI Quantera II在微區(qū)深度剖析時，在相距只有幾十微米的不同結(jié)構(gòu)區(qū)域，都可有效提供超高靈敏度的分析結(jié)果。
4. 自動雙束中和設(shè)計，使導體及非導體
雙束中和采用低能電子束及低能離子束，在樣品近表面形成類等離子體氣氛，用來中和絕緣樣品表面的荷電。這一中和方式，使在分析不同類型樣品時，無需重新設(shè)置中和參數(shù)，既能自動匹配提供穩(wěn)健的電荷補償功能。浮動柱狀離子槍及冷陰極發(fā)射器可以在超低電壓的條件下，提供大的離子及電子密度流。
5. 逐點掃描的快速化學成像能力
通過掃描X-ray，可通過條件每點的掃描時間快速完成化學態(tài)成像。同時能夠得到每個像素點的化學態(tài)信息。傳統(tǒng)的XPS通常采用拍攝大量的化學態(tài)快照，通過數(shù)學計算得到微區(qū)譜信息。而PHI Quantera II真正意義上實現(xiàn)了在化學態(tài)成像圖上獲取數(shù)據(jù)譜信息，同時數(shù)據(jù)譜的空間分辨率、靈敏度及能量分辨率與儀器主指標*。
6. 精確而快速的深度剖析能力
采用*的聚焦X-ray設(shè)計，可使用較小的束斑得到較好的界面信息。同時采用較小的濺射面積實現(xiàn)快速的深度剖析功能。
