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XMD 對位芳綸粉納米研磨機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 太倉希德機械科技有限公司
  • 品牌
  • 型號 XMD
  • 所在地 蘇州市
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2019/10/8 16:10:24
  • 訪問次數(shù) 541

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對位芳綸粉納米研磨機定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地研磨、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及均質(zhì)的效果。

詳細信息 在線詢價

對位芳綸粉納米研磨機

 一、產(chǎn)品名稱概述:對位芳綸樹脂研磨機,對位芳綸短纖維研磨機,間位芳綸超細研磨機,一步法芳綸沉析研磨設(shè)備,填充復(fù)合芳綸纖維研磨機,芳綸在線式連續(xù)化沉析機

二、對位芳綸

聚對苯二甲酰對苯二胺纖維(芳綸1414)是聚對苯二甲酰對苯二胺經(jīng)液晶溶液干噴-濕紡制得的高強、高模纖維,是當(dāng)前重要的高科技纖維。具有高強高模、耐高溫、耐腐蝕、質(zhì)量輕等優(yōu)異綜合性能。其強度是鋼絲的5~6倍,模量為鋼絲或玻璃纖維的2~3倍,韌性是鋼絲的2倍,而重量僅為鋼絲的1/5左右,是目前世界上高性能纖維中用途廣的纖維,被廣泛用于國防、航天航空、信息產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域(如彈道殼體、裝甲坦克外殼和大型客機機翼復(fù)合材料、防彈衣、通訊光纜加強件)。

三、普遍的對位芳綸纖維生產(chǎn)工藝流程

聚對苯二甲酰對苯二胺與濃硫酸按比例混合----溶解----脫泡----計量擠出----入凝固浴成型----水洗----堿洗----水洗----熱處理----卷繞成形。

四、對位芳綸顆粒填充的要求

芳綸填充關(guān)系到幾個點,需要對粒徑的要求*,一般都為1微米左右。干成品的短纖維剛性和韌性很強,非常的難細化,使用的設(shè)備不當(dāng),會導(dǎo)致粒徑越大,厚度越小,導(dǎo)致長絲易斷的情況。影響后期應(yīng)用的各方面性能。希德機械團隊針對于這個難題進行了研究,解決了大部分客戶的問題,5G時代芳綸取得了重大的應(yīng)用,芳綸的的需求空間得以擴寬。

五、如何更好的研磨芳綸14

芳綸14剛性較強,在拉絲經(jīng)凝固浴成型后難以研磨。希德人建議芳綸原液需要經(jīng)過沉析后立馬進入高性能的研磨設(shè)備,在熱固性沒有冷卻成型之前進入該設(shè)備,效果可以研磨到細小的粒徑。我司可直接通過沉析和研磨2階段的設(shè)備。可替換高扭曲的雙螺桿擠出設(shè)備。成本較低,操作方便,性價比較高。

六、沉析設(shè)備

改進型沉析機系列裝備了三組非標(biāo)準(zhǔn)定制的工作頭,設(shè)備分別有兩個進料口,一個入口進凝固浴,另一個入口芳綸原液。入口處帶有計量泵,可以更好的控制漿液與母液的配比。工作原理為利用特殊轉(zhuǎn)子的高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生負壓喂料,并將高模量液晶態(tài)的原液連續(xù)均勻地導(dǎo)入快速流動的凝固浴中,經(jīng)剪切腔混合反應(yīng)后被瞬間剪切分散,沉析出羽絨狀的短纖維,由于混合液原液在混合前是互相不接觸的,只有在混合前的瞬間,原液被彌散狀導(dǎo)入混合液之中,所以沉析出來的纖維更細,更均勻。

七、芳綸研磨設(shè)備
高剪切均質(zhì)研磨機工作原理:高剪切均質(zhì)研磨機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地研磨、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及均質(zhì)的效果。

芳綸研磨設(shè)備高剪切均質(zhì)研磨機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的定子與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(均質(zhì)頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。

狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

XMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下, 凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

芳綸研磨設(shè)備型號表:

芳綸研磨設(shè)備

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

XMD2000/4

400

18,000

51

4

DN25/DN15

XMD2000/5

1000

10,500

51

11

DN40/DN32

XMD2000/10

3000

7,200

51

22

DN80/DN65

XMD2000/20

8000

4,900

51

45

DN80/DN65

XMD2000/30

20000

2,850

51

90

DN150/DN125

XMD2000/50

60000

1,100

51

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的 10%。

對位芳綸粉納米研磨機


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