Nano analytik研發(fā)了一款基于新型掃描探針光刻系統(tǒng)（SPL）?？稍诖髿猸h(huán)境下，高經(jīng)濟(jì)效益、快速直寫10納米以下結(jié)構(gòu)和制備納米級器件。該系統(tǒng)的閉環(huán)回路可實現(xiàn)使用同一掃描探針對納米結(jié)構(gòu)的成像、定位、檢測和操縱。

Nano analytik公司成立于2010年4月，技術(shù)源自德國伊爾梅瑙科技大學(xué)，公司的核心競爭力在于傳感器、微系統(tǒng)和控制技術(shù)，公司宗旨是讓納米分析技術(shù)簡單化，在保證科研嚴(yán)謹(jǐn)性的同時提高科研效率。

Nano analytik研發(fā)了一款基于新型掃描探針光刻系統(tǒng)（SPL）。可在大氣環(huán)境下，高經(jīng)濟(jì)效益、快速直寫10納米以下結(jié)構(gòu)和制備納米級器件。該系統(tǒng)的閉環(huán)回路可實現(xiàn)使用同一掃描探針對納米結(jié)構(gòu)的成像、定位、檢測和操縱。

掃描探針光刻系統(tǒng)（SPL）

技術(shù)特點：

• 場發(fā)射低能電子束

• 大幅降低電子束背底散射

• 幾乎消除電子束臨近效應(yīng)

• 無需調(diào)制電子束聚光

• 10 nm 以下光刻精度

• 接近原子級分辨的套刻精度

• 線寫速度高達(dá) 300 μm/s

• 大氣環(huán)境下可實現(xiàn)正負(fù)光刻

• 正光刻流程無需顯影步驟

• 大范圍分步重復(fù)工藝

• Mix & Match 混合光刻模式

• 閉環(huán)系統(tǒng)：光刻成像同一針尖反復(fù)交替進(jìn)行

• 多針尖并聯(lián)陣列提高效率

產(chǎn)品規(guī)格

探針掃描頭配置

樣品臺配置

AFM功能參數(shù)

電子配置

軟件