NanoCalc-2000是一種用戶可配置的膜厚測量系統(tǒng)，它利用分光光譜反射儀來精確地測量光學或非光學薄膜厚度，可廣泛用于半導體、醫(yī)療和工業(yè)生產(chǎn)中。

NanoCalc-2000-UV/VIS/NIR膜厚測量儀的原理：

利用白光干涉測量法的原理，NanoCalc-2000用一個寬光譜的光源來測得不同波長的反射數(shù)據(jù)，由于反射率n和消光系數(shù)k隨膜厚的不同而變化，NanoCalc-2000根據(jù)這一特性來進行曲線擬合從而求得膜厚。在NanoCalc-2000中，不同類型材料的相應參數(shù)通過不同的模型來描述，從而保證了不同類型材料膜厚測量的準確性。

NanoCalc-2000-UV/VIS/NIR膜厚測量儀的特點：

• UV/VIS/NIR高分辨率的配置
• 測量準確度在1nm，精度在0.1nm
• 可測量4層薄膜的任意3層
• 薄膜測量zui小可至10nm，zui大可至400um
• 可測量zui小1nm厚的透明金屬層
• 提供用于復雜外形材料測量的試驗臺及附件
• 對表面缺陷和光滑度不敏感
• 龐大的材質數(shù)據(jù)庫，保證各種材料的精確測量

NanoCalc-2000-UV/VIS/NIR膜厚測量儀的技術參數(shù)：