1200℃迷你型真空氣氛管式爐采用雙層殼體結構，爐腔材料采用高純氧化鋁，殼體兩邊安裝有鋁制散熱器使得法蘭溫度小于80℃，內爐腔表面涂有1750℃進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐腔潔凈度。

1200℃迷你型真空氣氛管式爐

產品詳情：1200℃迷你型真空氣氛管式爐采用雙層殼體結構，爐腔材料采用高純氧化鋁，殼體兩邊安裝有鋁制散熱器使得法蘭溫度小于80℃，內爐腔表面涂有1750℃進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐腔潔凈度。

1200℃迷你型真空氣氛管式爐適用范圍：

主要應用于院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。