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光譜儀器 薄膜測(cè)量

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薄膜測(cè)量
新澤西Salt Point公司開發(fā)的薄膜監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(TDS),在寬帶溶解率監(jiān)測(cè)儀(DRM)中集成了一套海洋光學(xué)多通道光譜儀,用來分析半導(dǎo)體和光學(xué)工業(yè)中使用的超薄的抗蝕膜。

DRM幫助客戶確定膜層的厚度以及應(yīng)用抗蝕膜后的材料溶解速率這都是控制薄膜生產(chǎn)工藝的重要參數(shù)。在初始化測(cè)試中,薄膜監(jiān)測(cè)解決方案主要針對(duì)膜厚<300nm的應(yīng)用,相對(duì)而言,傳統(tǒng)的單色和多色干涉測(cè)量方法在該測(cè)量應(yīng)用中的效果較差

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薄膜測(cè)量

 

新澤西Salt Point公司開發(fā)的薄膜監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(TDS),在寬帶溶解率監(jiān)測(cè)儀(DRM)中集成了一套海洋光學(xué)多通道光譜儀,用來分析半導(dǎo)體和光學(xué)工業(yè)中使用的超薄的抗蝕膜。

DRM幫助客戶確定膜層的厚度以及應(yīng)用抗蝕膜后的材料溶解速率這都是控制薄膜生產(chǎn)工藝的重要參數(shù)。在初始化測(cè)試中,薄膜監(jiān)測(cè)解決方案主要針對(duì)膜厚<300nm的應(yīng)用,相對(duì)而言,傳統(tǒng)的單色和多色干涉測(cè)量方法在該測(cè)量應(yīng)用中的效果較差。在測(cè)試中,TDS采用了一個(gè)SD2000雙通道光譜儀,通過一個(gè)R系列反射探頭來實(shí)現(xiàn)反射式測(cè)量。

TDS在其上的報(bào)告中的結(jié)果顯示了多波長(zhǎng)DRM系統(tǒng)能夠在離散的時(shí)間間隔內(nèi)測(cè)定薄膜厚度,傳統(tǒng)的DRM系統(tǒng)要監(jiān)測(cè)光阻材料比較困難,并且,通過免去了對(duì)離散的靜態(tài)的光學(xué)厚度測(cè)量工具的需求,也給研究者提供了相應(yīng)附加值。

目前,TDS提供了1-, 2-, 4- 和8-通道的配置。TDS近正好發(fā)布了它的L系列DRM產(chǎn)品線,新產(chǎn)品可以用于光阻材料的研發(fā),配方研究,光阻材料生產(chǎn)的質(zhì)量控制,以及聚合樹脂生產(chǎn)的質(zhì)量控制。L系列產(chǎn)品線包括多波長(zhǎng)和多層分析算法,實(shí)現(xiàn)對(duì)零度薄膜的離散厚度測(cè)量,并且提供非線性溶解速率現(xiàn)象的準(zhǔn)確數(shù)據(jù)。

概要

附著在基底上的薄膜就如同一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)具,當(dāng)觀察其表面的反射率時(shí)會(huì)看到一幅干涉條紋圖樣。當(dāng)組合不同折射率的材料時(shí),條紋間隔的正弦曲線分布可以用來計(jì)算此薄膜的厚度。

光譜儀

USB4000-VIS-NIR (350-1000nm)適合用于薄膜的反射測(cè)量。光譜儀預(yù)先配置了#3光柵,它的閃耀波長(zhǎng)在500nm;一個(gè)OFLV-350-1000濾光片可以屏蔽二級(jí)和三級(jí)衍射效應(yīng);以及一個(gè)25μm 狹縫,可以得到~1.5nm (FWHM)的光學(xué)分辨率。

取樣光學(xué)元件

R400-7-VIS/NIR反射式探頭,90°測(cè)量薄膜表面的鏡面反射。再加上一個(gè)LS-1鹵鎢燈光源和一個(gè)STANSSH高反射率鏡面反射標(biāo)準(zhǔn)參考,組成一套取樣配置。

 薄膜測(cè)量

從海洋光學(xué)的操作軟件中(見上圖)可以觀察到由薄膜基底的膜層產(chǎn)生的干涉光譜。分析大值和小值處的波長(zhǎng)可以確定薄膜的厚度(已知薄膜的折射率)或者確定它的折射率(已知薄膜的厚度)。需要注意的是,樣本的厚度可能不是均勻的;建議測(cè)量薄膜的多個(gè)位置點(diǎn)。

配置

1.USB4000-UV-VIS通用實(shí)驗(yàn)室光譜儀

#1光柵,波長(zhǎng)范圍200-850nm

25微米狹縫作為入射孔徑

OFLV-200-850消除衍射濾光片

2.DH2000-BAL氘-鹵鎢組合光源

3.R400-7-UV-VIS反射探頭

4.RPH-1反射探頭支架

5.SpectraSuite光譜儀控制軟件

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