目前國(guó)內(nèi)高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無(wú)法實(shí)現(xiàn)溫度的測(cè)量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布高溫快速爐。

產(chǎn)品介紹

    高溫快速爐 可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無(wú)氣氛污染?？稍诟哒婵?，高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

       高溫快速爐提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比，紅外線(xiàn)反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，在試驗(yàn)中也可改寫(xiě)設(shè)定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。

     同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)全新的溫度控制操作！

設(shè)備優(yōu)勢(shì)

高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng)，增設(shè)氣體冷卻裝置，可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

溫度控制

過(guò)紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用，可以精確控制樣品的溫度（遠(yuǎn)比普通加溫方式）。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)），操作簡(jiǎn)單，使用石英玻璃制成。紅外線(xiàn)可傳送到加熱/冷卻室。

反射爐溫度控制裝置

高速升溫時(shí)，配套的快速反應(yīng)的紅外線(xiàn)反射爐控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能緊湊設(shè)計(jì)，響應(yīng)速度愉。

為了高速加熱、設(shè)備采用PID溫度控制，同時(shí)采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試驗(yàn)溫度。

l 據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡(jiǎn)單輸入溫度程序設(shè)定和外部信號(hào)。另外還可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)。

l 自適應(yīng)熱電偶包括JS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型

l 大可設(shè)定32個(gè)程序、256個(gè)步驟的程序。

l 30A、60A、120A內(nèi)置了SCR電路，所以范圍很廣。

l 250mmW*80mmD*57mmH小巧尺寸

設(shè)備配置