臺式三維原子層沉積系統(tǒng)-ALD是通過將氣相前驅體脈沖交替的通入反應器，化學吸附在沉積襯底上并反應形成沉積膜的一種方法，是一種可以將物質以單原子膜形式逐層的鍍在襯底表面的方法。因此，它是一種真正的“納米”技術，以精確控制方式實現(xiàn)納米級的超薄薄膜沉積。由于ALD利用的是飽和化學吸附的特性，因此可以確保對大面積、多空、管狀、粉末或其他復雜形狀基體的高保形的均勻沉積。

臺式三維原子層沉積系統(tǒng)-ALD

應用領域

半導體 燃料電池

光子學 常規(guī)電池

MEMS 太陽能電池

催化劑 生物傳感器

高能物理 工業(yè)涂覆加工

臺式三維原子層沉積系統(tǒng)-ALD系統(tǒng)特點

* 300℃ 鋁合金熱壁，對流式溫度控制

* 175℃溫控150ml前驅體瓶，200℃溫控輸運支管

* 可容納多片4，6，8英寸樣品同時沉積

* 可容納1.25英寸/32mm厚度的基體

* 標準CF-40接口

* 可安裝原位測量或粉末沉積模塊等選件

* 等離子體輔助ALD插件

* 多種配件可供選擇

 Quantum 量子科學儀器貿易（北京）有限公司(暨Quantum Design中國子公司)是世界的科學儀器制造商——美國 Quantum Design 公司在*設立的諸多子公司之一。美國 Quantum Design 公司生產的 SQUID 磁學測量系統(tǒng) (MPMS) 和材料綜合物理性質測量系統(tǒng) (PPMS) 已經成為*的*測量平臺，廣泛的分布于世界上幾乎所有材料、物理、化學、納米等研究領域*的實驗室。同時美國 Quantum Design 公司還利用自己遍布世界的專業(yè)營銷和售后隊伍打造一個代理分銷網絡，與世界其他*的設備制造商合作，為其提供遍布的專業(yè)產品銷售和售后服務網絡，2007 年美國 Quantum Design 公司并購了歐洲較大的儀器分銷商德國 LOT 公司，使得 Quantum Design 公司代理分銷和售后網絡變得更加完整和強大。