UNHT型瑞士CSM超納米壓痕儀
UNHT型瑞士CSM超納米壓痕儀是市場上現(xiàn)有的較精準(zhǔn)的納米與超納米尺度動態(tài)壓痕測試儀器。在小尺度蠕變、軟材料、生物材料、超薄膜、弛豫、彈性體等應(yīng)用領(lǐng)域性能尤為突出。
正弦加載壓入模式(Sinus 態(tài)機(jī)械分析模式)
正線加載入模式可以通過其動態(tài)的測量過程給出材料更為完整的力學(xué)信息，例如材料的粘彈性。這種加載模式可以給出材料硬度、彈性模量、存儲模量和損失模量等信息隨壓入深度的連續(xù)分布曲線。
技術(shù)參數(shù)：
較小有效加載載荷： ?25uN
較大有效加載載荷 ?100mN
有效載荷分辨率 ?1nN
較小接觸力 ?100nN
較大壓痕深度 ?100um
位移分辨率 ?0.0003nm
位移信號噪聲水平 ?0.03nm
位移信號穩(wěn)定水平(或熱漂移) 0.008nm/sec
加載模式 高精度壓電驅(qū)動加載
位移測量 電容傳感器
符合ISO 14577-1，2，3標(biāo)準(zhǔn)
加載模式：
線性加載，連續(xù)加載卸載，二次項(xiàng)加載，恒應(yīng)變速率加載，位移控制加載
正弦加載(DMA模式)：
能夠通過一次壓痕獲得接觸剛度、硬度和彈性模量隨壓痕深度的連續(xù)函數(shù)分布；
能夠測量材料的儲存模量、損耗模量和阻尼
能夠在壓入過程中通過反饋系統(tǒng)保持恒定的簡諧位移振幅。
簡諧力頻率范圍: 1Hz to 200Hz
XY 工作臺： 120 x 20 mm ，245 x 120 mm (OPX+)
XY 工作臺位移分辨率 ：0.25 μm ，0.10 μm (選件)
光學(xué)顯微鏡放大倍率： 200x, 4000x
光學(xué)顯微鏡攝像鏡頭： 彩色 768 x 582*
主要特點(diǎn)：
主動參比測量設(shè)計(jì)實(shí)時(shí)扣除熱漂移等偽位移信號
超低熱漂移
深度與載荷信號的電容傳感器測量
雙壓電加載裝置(更加可靠的設(shè)計(jì))
雙載荷傳感器(閉環(huán)力反饋系統(tǒng))
符合標(biāo)準(zhǔn)ISO 和 ASTM
集成自動光學(xué)測量系統(tǒng)
帶有反饋系統(tǒng)的載荷加載裝置
儀器操作系統(tǒng)軟件包
可擴(kuò)展選項(xiàng)
真空或濕度環(huán)境控制
原子力顯微鏡
高分辨率工作臺 (精度0.25微米)
高分辨率CCD光學(xué)顯微鏡
環(huán)境保護(hù)罩
