KMP 通過(guò)光學(xué)成像系統(tǒng)大大縮短測(cè)試所需的距離，實(shí)現(xiàn)間接的 LID 測(cè)試。該光學(xué)成像系統(tǒng)可以直接將光的空間分布特性成像在焦平面上。光源發(fā)出的同一方向的平行光被成像在同一個(gè)位置。所以同樣角度的光線將被成像在固定的位置，在焦平面內(nèi)，每一個(gè)位置對(duì)應(yīng)一個(gè)角度。整個(gè)成像系統(tǒng)的尺寸由經(jīng)過(guò)透鏡被成像到焦平面的光線束決定。

如果焦平面結(jié)合具體的空間解析度，再對(duì)空間信息和光度學(xué)與光源之間的關(guān)系,根據(jù)球面坐標(biāo)進(jìn)行校正，就可以根據(jù)亮度圖像計(jì)算光強(qiáng)分布。在該系統(tǒng)中，同時(shí)需要對(duì)反射屏、雜散光等進(jìn)行嚴(yán)格設(shè)計(jì)。

對(duì)于需要10m測(cè)試距離的前燈，KMP 的圖像處理方法，測(cè)試距離可以減為 40cm。根據(jù)測(cè)試光源的類(lèi)型，以及光學(xué)成像系統(tǒng)的情況，測(cè)試距離還可以更短。所需的測(cè)試空間非常小，滿足生產(chǎn)線測(cè)試的需要。通常箱體空間尺寸為

95 cm x 50 cm x 43cm

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