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alpha300 RA 德國(guó)witec激光共聚焦顯微拉曼系統(tǒng)

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公司名稱 先鋒科技（香港）股份有限公司
品牌
型號(hào) alpha300RA
所在地
廠商性質(zhì) 其他
更新時(shí)間 2021/1/11 15:16:50
訪問次數(shù) 255

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

alpha300 RA –在一個(gè)系統(tǒng)里面集成化學(xué)成分分析和納米級(jí)別的結(jié)構(gòu)成像

alpha300 RA 是高度集成的拉曼原子力顯微鏡系統(tǒng)，可以在標(biāo)準(zhǔn)的Alpha 300R共聚焦拉曼系統(tǒng)上通過標(biāo)準(zhǔn)模塊升級(jí)即可完成拉曼原子力系統(tǒng)聯(lián)用，獲得原位的AFM和Raman圖像的疊加。alpha300 RA *的設(shè)計(jì)理念使聯(lián)用系統(tǒng)既保留300R強(qiáng)大的化學(xué)組分分析能力，同時(shí)加入微納級(jí)別的表面形貌等特性的分析能力，使研究者能對(duì)樣品進(jìn)行深度完善的分析和理解。

alpha300 RA 讓拉曼和原子力兩種互補(bǔ)的技術(shù)得以在一套系統(tǒng)里面實(shí)現(xiàn)，兩種技術(shù)的性能*不受聯(lián)用的影響，而且使用同一個(gè)操作軟件，使得操作和分析變得簡(jiǎn)單應(yīng)用。拉曼和原子力顯微鏡使用不同的顯微鏡物鏡，只需要簡(jiǎn)單轉(zhuǎn)動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)盤，成像軟件即可原位完成兩種技術(shù)的圖像對(duì)比，疊加和分析

此外alpha300 RA可進(jìn)一步升級(jí)來配合TERS (高分辨拉曼)測(cè)量

Alpha 300RA 激光共聚焦顯微拉曼-原子力聯(lián)用系統(tǒng)主要特點(diǎn)

· 所有alpha300 R (拉曼) 和alpha300 A (原子力) 的性能集成到一個(gè)顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)
· 優(yōu)異的原位化學(xué)組分分析（拉曼）和微納級(jí)別表面特征分析（原子力）的結(jié)合
· 原子力和拉曼同時(shí)進(jìn)行的選擇
· 嚴(yán)格原位，*不需要在測(cè)量過程中移動(dòng)樣品
· 只需要轉(zhuǎn)動(dòng)物鏡轉(zhuǎn)盤即可在兩種測(cè)量技術(shù)之間簡(jiǎn)單切換

Alpha 300RA 激光共聚焦顯微拉曼-原子力聯(lián)用系統(tǒng)應(yīng)用實(shí)例

多組分高分子混合物，包含了1:1:1比例的聚苯乙烯（PS），充油丁苯橡膠（SRB）和丙烯酸乙基己酯（EHA）的原位拉曼及原子力圖像對(duì)標(biāo)
*左邊的拉曼成像: 綠色代表PS, 紅色代表SRB，藍(lán)色代表EHA.
第二至第五張圖像分別是樣品的表面拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)，相位，粘附力和粘度

金剛石壓砧在單晶硅表面的壓痕的應(yīng)力分析，原位拉曼原子力圖像
左圖：10x10um原子力表面拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)和深度輪廓圖，右圖壓痕周邊的應(yīng)力拉曼圖像，紫色為未受應(yīng)力影響，黃色為壓力應(yīng)變，灰色為張力應(yīng)變

Alpha 300RA 激光共聚焦顯微拉曼-原子力聯(lián)用系統(tǒng)性能

通用拉曼操作模式

· 拉曼光譜成像：連續(xù)掃描的拉曼高光譜全譜成像，每個(gè)樣品點(diǎn)都能獲得完整的拉曼光譜
· 平面2D和包含深度Z方向的3D成像模式
· 快速和慢速時(shí)間序列
· 單點(diǎn)及Z方向深度掃描
· 光纖耦合的UHTS 系列光譜儀，專為弱光應(yīng)用的拉曼光譜設(shè)計(jì)
· 共聚焦熒光顯微鏡功能
· 明場(chǎng)顯微鏡功能

通用原子力顯微鏡操作模式

· 接觸模式
· AC 模式（輕敲模式）
· 數(shù)字脈沖力模式 (DPFM)
· 抬高模式
· 磁力顯微鏡模式 (MFM)
· 靜電力顯微鏡模式 (EFM)
· 相位成像模式
· 力曲線分析
· 微納操控及微納印刷
· 橫向力模式 (LFM)
· 化學(xué)力模式 (CFM)
· 電流探測(cè)模式
· 其他可選

基本顯微鏡指標(biāo)

· 研究級(jí)別的光學(xué)顯微鏡，6孔物鏡轉(zhuǎn)盤
· 明場(chǎng)CCD相機(jī)，代替目鏡觀察樣品
· LED明場(chǎng)科勒照明
· 電動(dòng)XYZ樣品臺(tái)，25x25x20mm平移范圍
· 主動(dòng)隔震平臺(tái)

各類拉曼升級(jí)選項(xiàng)（如true surface等）

· 多種激光可選擇
· 多種光譜儀可選擇
· 自動(dòng)共聚焦拉曼成像
· 自動(dòng)多區(qū)域多點(diǎn)測(cè)量
· 可升級(jí)超快拉曼圖像模式(需配置EMCCD和Piezo樣品臺(tái)，可獲得每秒1300張光譜的速度)
· 可升級(jí)落射熒光照明
· 自動(dòng)聚焦功能
· 顯微鏡觀察法可選，如暗場(chǎng)，像差，偏光，微分干涉等

超高通光量UHTS光譜儀

· 各類透射式波長(zhǎng)優(yōu)化譜儀可選 (UV, VIS or NIR)，均為弱光拉曼光譜設(shè)計(jì)
· 光纖耦合，70%超高光通量
· 優(yōu)異的成像質(zhì)量，光譜峰形對(duì)稱無像差

控制電腦

WITec控制和數(shù)據(jù)采集，處理軟件