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紅外高溫爐

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紅外高溫爐是華測(cè)的工程師通過(guò)多年研究開(kāi)發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn),高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時(shí),具有良好的溫度分布。

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紅外高溫爐


一、紅外高溫爐簡(jiǎn)介:

     紅外高溫爐的反射鏡是具有曲率,采用5軸加工系統(tǒng)加工,以提高反射率。反射鏡有兩種類型,一種是橢圓形的,另一種是拋物線型的,它們適合各種材料的在溫度制控的條件下的測(cè)試。

溫度控制

過(guò)紅外鍍金聚焦?fàn)t和溫度控制器的組合使用,可以控制樣品的溫度(遠(yuǎn)比普通加溫方式)。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供。

高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時(shí)爐體可配置水冷系統(tǒng),增設(shè)氣體冷卻裝置,可實(shí)現(xiàn)快速冷卻。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動(dòng)),操作簡(jiǎn)單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。


二、紅外高溫爐簡(jiǎn)介設(shè)備配置

序號(hào)

項(xiàng)目

數(shù)量

品牌

備注

1

爐體

1

華測(cè)

大溫度1200℃

2

加熱源

1

GE(進(jìn)口)


3

溫度控制器

1

華測(cè)


4

電熱偶

1

omega


5

溫控表

1

歐姆龍(進(jìn)口)


6

穩(wěn)壓電源

1

華測(cè)

可定制

7

制冷水機(jī)

1

同飛

制冷功率8KW

8

分子泵

1

萊寶(進(jìn)口)

CF法蘭,抽速≥40L/s,極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa


三、紅外高溫爐應(yīng)用范圍

1. 電子材料

半導(dǎo)體用硅化合化的PRA(加熱后急速冷卻)

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

2.陶瓷與無(wú)機(jī)材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐。

陶瓷張力、撓曲試驗(yàn)退火爐

3.鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過(guò)程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理(1000℃以下)

大氣氣體熔化過(guò)程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐

4.復(fù)合材料

耐熱性評(píng)價(jià)爐

無(wú)機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐

5.其它

高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導(dǎo)陶瓷退火爐


北京華測(cè)試驗(yàn)儀器有限公司

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