Bambino2/Piccolo2里氏金屬硬度計(jì)
Equotip Piccolo 2 和 Bambino 2 都適用于在現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)金屬硬度，且檢測(cè)壓痕盡可能小?？煽康脑O(shè)計(jì)和大顯示屏允許用戶在可見性很低的粉塵工作環(huán)境中使用。兩種產(chǎn)品還能夠以所有常用標(biāo)度顯示金屬硬度

Bambino2/Piccolo2里氏金屬硬度計(jì)

使用 Piccolo 2 / Bambino 2 測(cè)量時(shí),帶有堅(jiān)硬的金屬球壓頭的沖擊體將沖擊要測(cè)量的樣品，然后在此沖擊產(chǎn)生的彈簧能量的推動(dòng)下回彈。在沖擊前后，沖擊體中的永磁體將通過(guò)一個(gè)線圈，此前后移動(dòng)將在線圈中產(chǎn)生電壓信號(hào) V。此感應(yīng)信號(hào)與沖擊體的速度成比例?；貜椝俣?vr 與沖擊速度 vi 之比乘以 1000 將得出硬度值 HL（里氏硬度）。HL 是硬度的直接測(cè)量值。當(dāng) HLD 指的是使用 D 型裝置（帶平面支撐環(huán)的 27 毫米長(zhǎng)沖擊體）進(jìn)行檢測(cè)，HLDL 指使用 DL 附件工具包（帶有具有纖長(zhǎng)探頭的支撐環(huán)的 82 毫米長(zhǎng)沖擊體）中的輕薄探頭進(jìn)行的檢測(cè)。

在檢測(cè)過(guò)程中保持樣品穩(wěn)定不動(dòng)。輕薄樣品必須采用特殊方式固定（請(qǐng)參見“檢測(cè)輕薄樣品”）。確保目標(biāo)位置的表面清潔、光滑且干燥。如果需要，請(qǐng)使用適當(dāng)?shù)那鍧崉┻M(jìn)行清潔，如丙酮或異丙醇（不要使用水?。?。
 •     小樣品重量
          小型形狀 5 千克（11 磅）
          穩(wěn)定基座 2 千克（4.5 磅）
          聯(lián)接到穩(wěn)定基座 0.1 千克（0.25 磅）
 •     小樣品厚度
          未聯(lián)接 25 毫米（1 英寸）
          已聯(lián)接 3 毫米（1/8 英寸）
          層厚 0.8 毫米（1/32 英寸）
 •     樣品表面條件
          粗糙度 ISO 等級(jí) N7
          大粗糙度深度 Rt 10 毫米（400 密耳）
          平均粗糙度深度 Ra 2 毫米（80 密耳）
          大樣品硬度 890 HLD (~ 950 HLDL, ~ 955 HV, ~ 68 HRC

選擇一個(gè)硬度單位（請(qǐng)參見“設(shè)置”一節(jié)）。 
•采用 HLD / HLDL 檢測(cè)方法時(shí)，對(duì)非垂直向下 (• ) 的沖擊方向選擇自動(dòng)補(bǔ)償。循環(huán)執(zhí)行“1. 加載 – 2. 放置 – 3. 觸發(fā)”步驟進(jìn)行檢測(cè)沖擊。 
•要將沖擊裝置接觸到檢測(cè)樣品（如果尚未接觸），應(yīng)用一只手緊握該裝置，然后用另一只手
1. 按下加載管直到感覺已觸碰到樣品。加載管可以緩慢返回到起始位置?；蛘撸部稍跊_擊后（在將裝置移動(dòng)到新位置之前）的位置或以后將不檢測(cè)的任何其他位置執(zhí)行此加載操作。將支撐環(huán)放在檢測(cè)樣品上。特別小心地將整個(gè)支撐環(huán)放在檢測(cè)樣品上，但不要與上一檢測(cè)壓痕2. 對(duì)齊。要觸發(fā)一個(gè)沖擊，請(qǐng)將制動(dòng)管向外殼的方向推動(dòng)。推動(dòng)約 1 毫米（0.04 英寸）后，沖擊體被釋放。完成連續(xù)沖擊后，重復(fù)按 • ? 鍵可顯示出硬度平均值，在使用 Equotip Piccolo 2 時(shí)，還會(huì)顯示出測(cè)量值的更多統(tǒng)計(jì)信息。

注意：
如果可能，請(qǐng)按照國(guó)家標(biāo)準(zhǔn) DIN 50956-1（金屬材料）或 ASTM A956（僅限鋼、鑄鋼和鑄鐵）中所述的回彈硬度檢測(cè)的標(biāo)準(zhǔn)過(guò)程操作。如果不可行，建議用戶在每個(gè)測(cè)量位置每隔 3 至 5 毫米（0.12 至 0.20 英寸）至少執(zhí)行 3 到 5 次沖擊，然后使用所有測(cè)量值的平均值。

注意：
請(qǐng)勿在已由沖擊導(dǎo)致變形的區(qū)域執(zhí)行沖擊。另外，請(qǐng)勿在儀器已定位至新的檢測(cè)位置時(shí)加載該儀器，因?yàn)閮x器下的材料可能因事先的重壓而受到影響。