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NIL Technology - 納米壓印機

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 香港電子器材有限公司
品牌
型號
所在地
廠商性質(zhì) 其他
更新時間 2021/3/2 19:54:09
訪問次數(shù) 1030

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促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

詳細(xì)信息在線詢價

NIL Technology (NILT) 是一家以制作并經(jīng)銷納米壓印光刻模版為主，集壓印服務(wù)、生產(chǎn)以及咨詢?yōu)橐惑w的專業(yè)技術(shù)公司。 NILT同時還致力于拓展納米結(jié)構(gòu)的新興應(yīng)用領(lǐng)域，并取得了的成就。我們的模版可以根據(jù)客戶對所刻圖案的樣式和材料的具體要求進(jìn)行特別加工。

模版的圖案尺寸可在 20nm 以下
大至 150nm 的圓形或方形模版
模版材料：硅，石英，鎳等
適用于各種納米壓印版式的模版

NILT的模版可以廣泛應(yīng)用于不同的領(lǐng)域，例如：

可再生能源
微流體、納流體
發(fā)光二極管和激光器
生命科學(xué)，如芯片實驗室系統(tǒng)
光學(xué)
射頻元器件
數(shù)據(jù)存儲
安全系統(tǒng)
半導(dǎo)體

更多以上的應(yīng)用范圍外，請與我們銷售查詢。

NILT主要產(chǎn)品包括:

- 熱壓和紫外壓印服務(wù)

- 納米壓印模版

- 納米壓印設(shè)備

熱壓和紫外壓印服務(wù)

高分子聚合物中間層壓印技術(shù)可以實現(xiàn)納米壓印/熱壓印非平面化的壓印，同時高分子聚合物中間層的熱塑彈性材料實現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)移和復(fù)制?？杀Ｗo(hù)昂貴的母板因多次轉(zhuǎn)印而損壞，同時用于母板的復(fù)制。
材料方面		應(yīng)用方面
Silicon NIL 硅納米壓印模板硅納米壓印光刻用于熱納米壓印光刻或作為母板的聚合物生產(chǎn)。由客戶提供的一項決議規(guī)定下任何圖案分辨率達(dá)20nm納米和寬比可達(dá)1:10。		微透鏡陣列的定制模板模板與凹形或凸形的微透鏡陣列用于通過熱壓印或注塑生產(chǎn)使用。
熔融石英NIL 壓印模板熔融二氧化硅納米壓印光刻模板用于紫外納米壓印光刻技術(shù)。 NILT提供熔融石英模板，由客戶的任何模式下低于30nm和寬比可達(dá)1:5。		微流體和LOC墊片通過熱壓印或注塑定制墊片的鎳生產(chǎn)微流體和實驗室級芯片(LOC)系統(tǒng)。
Nickel Shims鎳墊片鎳墊片被用于熱壓印和輥到輥子設(shè)置。 NILT提供鎳與郵票大小達(dá)600mm x 600mm，厚度降低到50µm。鎳墊片可以用圖形化的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)。
PDIL 壓印模板 PDMS模板是由硅或熔融石英大師鑄造。 NILT提供的PDMS，分辨率降低到100 nm，具有高寬比可達(dá)1：2。
聚合物NIL 壓印模板聚合物納米壓印光刻是由硅或石英玻璃制成的母板，典型地由熱納米壓印光刻工藝。 NILT任何聚合物并與客戶的任何模式提供聚合物模板。小i 分辨率I50nm，縱橫比可以高達(dá)1:3。
65-壓印模板由熔融二氧化硅和用于紫外線步進(jìn) - 重復(fù)過程。分辨率下降到50 nm，可定任何模式，縱橫比高達(dá)1：5。

納米壓印模版

Microlens Array 微透鏡陣列標(biāo)準(zhǔn)印記含有緊密堆積排列為蜂窩形狀與各個透鏡之間三維交叉點的微透鏡的結(jié)構(gòu)		直線和圓弧工程風(fēng)口專為一組多功能設(shè)計擴(kuò)散器的研發(fā)工作，以及對產(chǎn)品和工藝的開發(fā)。
線柵型偏振Wire Grid Polarizer 理想的生產(chǎn)線柵偏振器的通過納米壓印光刻，用于測試目的。郵票的特點為 12 mm x 12 mm，50 nm的線條和空間的大型活動區(qū)域。		光柵光柵標(biāo)準(zhǔn)壓印成本低，可印鏈路和支柱光柵圖案，客戶可根據(jù)不同規(guī)格來選擇。
防反光Anti-Reflective 是大面積和高性價比的功能標(biāo)準(zhǔn)郵票鎳具有漸變折射率分布，并與不斷變化的有效折射率。		多點模式Multi-Pattern 多模式標(biāo)準(zhǔn)壓印是的納米壓印工藝試驗NIL設(shè)備和測試。本標(biāo)準(zhǔn)郵票帶有線寬下降到50nm。
亞微米Sub-Micro標(biāo)準(zhǔn)壓印是的內(nèi)部納米壓印光刻技術(shù)和熱壓測試和工藝開發(fā)。壓印包含4種不同尺寸和4種不同的模式。		大面積支柱型壓印大面積的支柱標(biāo)準(zhǔn)郵票是在硅谷高品質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)的印章與光子晶體和防反射結(jié)構(gòu)的大面積圖案。它有4個區(qū)域，每次1cm x 1cm，方形陣列的支柱。
Micro Test方形結(jié)構(gòu)陣列500nm 非常適合納米壓印光刻技術(shù)和熱壓領(lǐng)域內(nèi)工藝試驗。壓印的特點是具有3，5，10和20微米大小的方形石柱/孔陣列		微型標(biāo)準(zhǔn)壓印是的內(nèi)部納米壓印光刻技術(shù)和熱壓測試和工藝開發(fā)。印模含有3種不同尺寸3個不同的圖案。
65-Stamps 線寬至100nm.		微型注射針頭結(jié)構(gòu) The micro-needle standard stamp 微針標(biāo)準(zhǔn)戳記包含的微針的逆結(jié)構(gòu) - 即微針形孔。微針標(biāo)準(zhǔn)戳記可用于生產(chǎn)微針或者通過熱壓印或鑄造。
Diffraction Grating衍射光柵光柵的間距在這兩種情況下為500nm和光柵的平均深度為250nm。

納米壓印設(shè)備

CNI - Thermal NIL Tool

EZI - UV NIL Tool

NIL Simprint Core v2.1 - 仿真軟件

NILT CNI 實驗用納米熱壓印機是專為實驗室和研發(fā)機構(gòu)設(shè)計和開發(fā)的簡單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設(shè)備，用戶可以通過CNI設(shè)備高效、低成本地實現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝，許多的研發(fā)機構(gòu)均購買了CNI的設(shè)備。NILT CNI熱壓設(shè)備，占地小、操作簡便，可實現(xiàn)高質(zhì)量的圖形復(fù)制，可實現(xiàn)納米熱壓設(shè)備的一切功能，而無需昂貴的工藝設(shè)備。

典型應(yīng)用：