產(chǎn)品介紹：P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)
P-I等離子表面活化處理系統(tǒng)是一款業(yè)內(nèi)使用zui多的等離子表面活化處理系統(tǒng)，集等離子清洗、等離子刻蝕（Plasma Etching）、反應(yīng)離子刻蝕（RIE）為一身的多功能等離子表面活化處理系統(tǒng)。 目前在世界各地的許多不同領(lǐng)域均有該款等離子表面活化處理系統(tǒng)在運(yùn)行之中。 例如，P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)被發(fā)現(xiàn)被廣泛用于醫(yī)療、半導(dǎo)體、電子，PCB（印刷電路板）、工業(yè)

產(chǎn)品介紹：P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)

P-I等離子表面活化處理系統(tǒng)是一款業(yè)內(nèi)使用zui多的等離子表面活化處理系統(tǒng)，集等離子清洗、等離子刻蝕（Plasma Etching）、反應(yīng)離子刻蝕（RIE）為一身的多功能等離子表面活化處理系統(tǒng)。 目前在世界各地的許多不同領(lǐng)域均有該款等離子表面活化處理系統(tǒng)在運(yùn)行之中。 例如，P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)被發(fā)現(xiàn)被廣泛用于醫(yī)療、半導(dǎo)體、電子，PCB（印刷電路板）、工業(yè)制造和太陽(yáng)能電池領(lǐng)域。P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)是一款真正杰出的等離子表面處理系統(tǒng)設(shè)備。

P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)可在兩種*的等離子處理模式下運(yùn)行：

1）普通等離子處理模式：等離子清洗機(jī)、等離子刻蝕機(jī)模式；
2）RIE反應(yīng)離子刻蝕處理模式： -反應(yīng)離子刻蝕（RIE）的等離子體處理模式；

P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)縱覽
對(duì)于批量等離子表面處理的好處是更好的附著力或打標(biāo)，更清潔的部件；而使用更少的勞動(dòng)力和化學(xué)品費(fèi)用減少，無(wú)需消除不受歡迎的化學(xué)廢物而花費(fèi)昂貴的處理的清理和涂刷費(fèi)用。 較大的鋁質(zhì)真空艙可容納一個(gè)寬大需要活性等離子表面清洗的工件；等離子表面活化處理系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)配置包括5套等離子處理工件架，可提供13600平方厘米（cm²）的可用等離子處理加工區(qū)。

P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)配備觸摸屏控制，這使得控制處理非常容易，因?yàn)槌绦蚧騾?shù)被保存，以備將來(lái)使用?？梢院苋菀椎乇３稚a(chǎn)和運(yùn)行在一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的、用戶友好的自定義軟件和程序之中，P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)操作非常容易。更加客戶配置定制電極，以滿足不同產(chǎn)品工件的大小和間距的要求，而不收取額外費(fèi)用。

P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)特點(diǎn)

直觀且簡(jiǎn)單易用的觸摸屏界面控制每一個(gè)等離子清洗過(guò)程的環(huán)節(jié)，從而確?？煽啃院涂芍貜?fù)性。

P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)控制臺(tái)結(jié)構(gòu)緊湊，從而占用很小的空間。真空泵浦系統(tǒng)提供特別準(zhǔn)備的真空泵，可與氧氣服務(wù)。 真空泵系統(tǒng)配以兩點(diǎn)氮?dú)?/span>（N2）吹掃系統(tǒng)，以減輕腐蝕性副產(chǎn)品在真空泵浦系統(tǒng)中的產(chǎn)生，從而延長(zhǎng)了真空泵浦系統(tǒng)的使用壽命和降低使用鹵化氣體系統(tǒng)的維護(hù)周期。

P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)真空艙及電極可按客戶配置定制，以滿足客戶對(duì)等離子表面活化處理系統(tǒng)的要求;，如 RIE（反應(yīng)離子刻蝕）、半導(dǎo)體引線框架盒、水平和垂直旋轉(zhuǎn)電極。

P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)規(guī)格

標(biāo)準(zhǔn)P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)配置
鋁合金真空艙：63.50 cm 寬  x  63.50 cm深  x 53.00高
電極設(shè)置：五套 51.00cm  X 53.00cm水平電極，每套電極板間隔7.6cm
射頻電源：600瓦@13.56MHz射頻電源;自動(dòng)匹配器網(wǎng)絡(luò)  
工藝氣體控制：單套500 SCCM質(zhì)量流量控制器 （MFC）
真空監(jiān)測(cè)系統(tǒng)：皮拉尼真空計(jì)0-1托
控制器系統(tǒng)：微處理器系統(tǒng)，配備觸摸屏界面
工藝程序存儲(chǔ)功能：可存儲(chǔ)多達(dá)20個(gè)雙步驟程序
真空泵浦系統(tǒng)：29 CFM氧氣服務(wù)真空泵系統(tǒng)，配備油霧分離器

可選配P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)配置
靜電屏蔽；
工藝溫度控制；
1250瓦@13.56MHz 射頻電源；
59 CFM氧氣服務(wù)真空泵系統(tǒng)；
355 CFM真空增壓機(jī)；
RIE（反應(yīng)離子刻蝕）電極配置；
低供應(yīng)壓力氣體報(bào)警器；
微軟計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)，配備觸摸屏接口；
直觀的等離子體刻蝕操作軟件，具備數(shù)據(jù)報(bào)告、事件監(jiān)控、打印功能；
信號(hào)燈塔、活躍真空控制器、 4套質(zhì)量流量控制器（MFC）；
自動(dòng)兩點(diǎn)氮?dú)?/span>（N2）真空泵吹掃、真空艙氮?dú)?/span>（N2）吹掃速度控制；
真空泵排氣油霧凝聚式過(guò)濾器
其它按客戶需求定制的真空艙及電極設(shè)置；

其它可選配等離子表面活化處理系統(tǒng)配置
閉環(huán)式射頻電源冷卻器
填充床煙氣洗滌器
壓縮空氣干燥機(jī)（吹掃氣體發(fā)生器）

P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)規(guī)格
等離子表面活化處理系統(tǒng)重量：約 550公斤
真空泵浦重量：約70公斤
等離子表面活化處理系統(tǒng)占地尺寸：180 cm  X  92cm  X 82cm
真空泵浦占地尺寸：41cm X 77cm X 44cm

P-1等離子表面活化處理系統(tǒng)設(shè)備外部安裝要求
電源：交流，3相30安培，
壓縮空氣：0.55~0.70 MPa，14升/分鐘
系統(tǒng)環(huán)境溫度：29攝氏度
工藝氣體壓力：0.10 MPa

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