產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長(zhǎng)薄膜而設(shè)計(jì)，特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究，通過(guò)滑動(dòng)爐實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。

產(chǎn)品用途：

此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長(zhǎng)薄膜而設(shè)計(jì)，特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔

電極方面的研究，通過(guò)滑動(dòng)爐實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。

產(chǎn)品組成：

CVD系統(tǒng)配置：

1.1200度開(kāi)啟式真空管式爐（可選配單溫區(qū)及雙溫區(qū)）。

2.滑動(dòng)系統(tǒng)分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng)，并配有風(fēng)冷系統(tǒng)。

3.內(nèi)外雙石英管，采用真空可通氣氛雙法蘭特殊連接。

4.多路氣體流量控制系統(tǒng)（質(zhì)子流量控制器和浮子流量控制器）

5.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）     

產(chǎn)品特點(diǎn)：

產(chǎn)品*性

1 控制電路選用模糊PID程控技術(shù)，該技術(shù)控溫精度高，熱慣性小，溫度不過(guò)沖，性能可靠，操作簡(jiǎn)單。

2 氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司*的知識(shí)產(chǎn)權(quán)設(shè)計(jì),提高操作便捷性。

3 中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動(dòng)控制功能，高真空系統(tǒng)采用高壓強(qiáng)，耐沖擊分子泵，防止意外漏氣造成分子泵損壞，延長(zhǎng)系統(tǒng)使用壽命。

4 (電動(dòng))滑動(dòng)系統(tǒng)采用溫度控制器自動(dòng)控制爐體移動(dòng)，等程序完成，爐體按設(shè)定的速度滑動(dòng)，因有滑動(dòng)限位功能，爐體不會(huì)發(fā)生碰撞，待樣品露出爐體后，通過(guò)風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫。

5 雙管真空密封法蘭，反應(yīng)氣體可以在內(nèi)外管之間發(fā)生反應(yīng)，冷卻氣體可通過(guò)內(nèi)管，從而使內(nèi)管外壁溫度降低。