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- 公司名稱 廣州競(jìng)贏科學(xué)儀器有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 所在地
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時(shí)間 2021/5/17 14:16:38
- 訪問次數(shù) 426
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氮化硅支持膜氮化硅支持膜:氮化硅支持膜是硅片上生長(zhǎng)了一層氮化硅膜,主要用于納米技術(shù)和分子生物研究,它的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)和機(jī)械性能穩(wěn)定耐腐蝕,可以承受高達(dá)1000°C的溫度變化。適合直接在氮化硅支持膜上對(duì)顆粒或細(xì)胞進(jìn)行各種納米技術(shù)實(shí)驗(yàn)。應(yīng)用領(lǐng)域:FIB樣品支撐,細(xì)胞生物學(xué)(附著的細(xì)胞可以直接在支持膜上的環(huán)境中生長(zhǎng),然后進(jìn)行分析)、分析膠體,氣溶膠,納米顆粒、自組裝單層、高分子研究、薄膜研究(直接沉積在氮化硅支持膜上)、材料科學(xué)、半導(dǎo)體器件的納米結(jié)構(gòu)的性質(zhì)、半導(dǎo)體:薄膜表征、催化劑研發(fā)。 分類: 支持膜
描述
氮化硅支持膜:氮化硅支持膜是硅片上生長(zhǎng)了一層氮化硅膜,主要用于納米技術(shù)和分子生物研究,它的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)和機(jī)械性能穩(wěn)定耐腐蝕,可以承受高達(dá)1000°C的溫度變化。適合直接在氮化硅支持膜上對(duì)顆?;蚣?xì)胞進(jìn)行各種納米技術(shù)實(shí)驗(yàn)。應(yīng)用領(lǐng)域:FIB樣品支撐,細(xì)胞生物學(xué)(附著的細(xì)胞可以直接在支持膜上的環(huán)境中生長(zhǎng),然后進(jìn)行分析)、分析膠體,氣溶膠,納米顆粒、自組裝單層、高分子研究、薄膜研究(直接沉積在氮化硅支持膜上)、材料科學(xué)、半導(dǎo)體器件的納米結(jié)構(gòu)的性質(zhì)、半導(dǎo)體:薄膜表征、催化劑研發(fā)。
膜厚度:彈性,超低應(yīng)力8、15、35或50nm,可產(chǎn)生最小吸收,從而實(shí)現(xiàn)清晰的成像;堅(jiān)固,低應(yīng)力的100nm和200nm,可在多個(gè)平臺(tái)上更好地處理和使用;窗口尺寸: 0.25 x 0.25mm,0.5 x 0.5mm,0.75 x 0.75mm,1.0 x 1.0mm,0.5 x 1.5mm以及具有3 x 3陣列的9個(gè)0.1 x 0.1mm窗口或2個(gè)0.1x 1.5毫米窗口的窗口版本。較大的窗口可提供更大的可視區(qū)域,例如,可以實(shí)現(xiàn)層析成像應(yīng)用所需的更大的傾斜角度。具有多個(gè)窗口的版本允許將多個(gè)樣本安裝在單獨(dú)的窗口上。表面粗糙度: RMS(Rq)為0.65 +/- 0.06nm,平均粗糙度(Ra)為0.45 +/- 0.02nm。貨號(hào)21510-10到21579-10。
產(chǎn)品貨號(hào) | 載網(wǎng)目數(shù) | 材質(zhì) | 規(guī)格 |
21901-10 | 氮化硅X射線支持膜,10mm框架,2x2mm孔徑,膜厚200nm | 硅 | 10/包 |
21902-10 | 氮化硅X射線支持膜,10mm框架,1x1mm孔徑,膜厚200nm | 硅 | 10/包 |
21903-10 | 氮化硅X射線支持膜,10mm框架,0.5×0.5mm孔徑,膜厚200nm | 硅 | 10/包 |
21904-10 | 氮化硅X射線支持膜,10mm框架,2x2mm孔徑,膜厚100nm | 硅 | 10/包 |
21905-10 | 氮化硅X射線支持膜,10mm框架,1x1mm孔徑,膜厚100nm | 硅 | 10/包 |
21906-10 | 氮化硅X射線支持膜,10mm框架,0.5×0.5mm孔徑,膜厚100nm | 硅 | 10/包 |
21907-10 | 氮化硅X射線支持膜,10mm框架,2x2mm孔徑,膜厚50nm | 硅 | 10/包 |
21908-10 | 氮化硅X射線支持膜,10mm框架,1x1mm孔徑,膜厚50nm | 硅 | 10/包 |
21909-10 | 氮化硅X射線支持膜,10mm框架,0.5×0.5mm孔徑,膜厚50nm | 硅 | 10/包 |
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