AutoConcept GD90輝光放電質(zhì)譜儀的主要特性：

·高分辨率，特別是對于有干擾離子存在的測定而言十分重要。

·廣泛的元素涵蓋范圍，軟件中包括70個元素相關(guān)的干擾離子數(shù)據(jù)。

·由于原子化和離子化過程發(fā)生在不同區(qū)域，帶來可忽略的基體效應(yīng)。

·低至亞ppb級的定量數(shù)據(jù)。

·具有深度剖面同位素比值分析能力。

·zui少的樣品制備過程。

半導(dǎo)體：

幾乎所有的電子、光學(xué)與光電設(shè)備都需要高純度半導(dǎo)體。此類半導(dǎo)體的電學(xué)性質(zhì)依賴于其中的雜質(zhì)成分。此類材料只有達到低的雜質(zhì)水平才能保證終端產(chǎn)品（例如微處理器與微型器件）的性能。

GDMS有助于半導(dǎo)體的整體調(diào)查分析，可對雜質(zhì)進行定量鑒定，可達到痕量與超痕量水平。

AutoConcept GD90輝光放電質(zhì)譜儀核能：

在核技術(shù)與核研究中，科研人員對同位素比例進行精準(zhǔn)的測量有著*的興趣。被廣泛接受的方法是熱電離質(zhì)譜(TIMS)。在此方法中，樣品必須被溶解，需要在分析前對感興趣的分析物進行化學(xué)分離。

GDMS同樣被用于含核材料樣品的同位素鑒定。通過對比，GDMS被證明是在精準(zhǔn)度要求的前提下對B，Li以及U同位素豐度鑒定的優(yōu)勢性技術(shù)。GDMS有著減少樣品制備過程的優(yōu)勢。

高純度金屬:

在金屬與合金的大批量生產(chǎn)過程中，痕量雜質(zhì)的總量不易控制。但為了控制其力學(xué)、化學(xué)、電學(xué)與其他高級性質(zhì)，受控添加痕量元素以及提純過程都是減少材料雜質(zhì)含量所需要的。

GDMS有助于成品中雜質(zhì)的檢出與鑒定，以確保由此金屬制成的系統(tǒng)的質(zhì)量與性能。

合金

合金與超合金試生產(chǎn)高性能機械-例如渦輪機-的關(guān)鍵材料。由于此類機械通常在高溫高壓下運行，即使痕量元素成分發(fā)生輕微變化都有可能導(dǎo)致災(zāi)難性后果。

GDMS在鑒定產(chǎn)品的元素組成上非常理想，用以保證機械系統(tǒng)的*化性能。