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KRI 霍爾離子源 eH 1000 伯東公司代理

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 伯東貿(mào)易（深圳）有限公司
品牌
型號
所在地 深圳市
廠商性質(zhì) 代理商
更新時間 2022/7/27 11:36:48
訪問次數(shù) 154

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促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

產(chǎn)品簡介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

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KRI 霍爾離子源 eH 1000
上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設(shè)計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

KRI 霍爾離子源 eH 1000 特性:
• 可拆卸陽極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時, 最限度地減少停機(jī)時間; 即插即用備用陽極
• 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
• 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便; 無需水冷
• 高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 1000 技術(shù)參數(shù):

型號

eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO

供電

DC magnetic confinement

- 電壓

40-300V VDC

- 離子源直徑

~ 5 cm

- 陽極結(jié)構(gòu)

模塊化

電源控制

eHx-30010A

配置

- 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

- 離子束發(fā)散角度

> 45° (hwhm)

- 陽極

標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved

- 水冷

前板水冷

- 底座

移動或快接法蘭

- 高度

4.0'

- 直徑

5.7'

- 加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體

- 工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

- 安裝距離

10-36”

- 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 1000 應(yīng)用領(lǐng)域:
• 離子輔助鍍膜 IAD
• 預(yù)清洗 Load lock preclean
• 預(yù)清洗 In-situ preclean
• Direct Deposition
• Surface Modification
• Low-energy etching
• III-V Semiconductors

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)產(chǎn)品信息或討論 , 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式 :

上海伯東 : 羅先生中國臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 e

• Polymer Substrates