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射頻離子源 RFICP 220 伯東公司代理

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  • 公司名稱(chēng) 伯東貿(mào)易(深圳)有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 所在地 深圳市
  • 廠(chǎng)商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2022/7/27 11:45:27
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 397

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射頻離子源 RFICP 220.jpg


KRI 射頻離子源 RFICP 220

上海伯東代理美國(guó) 口 KRI 射頻離子源 RFICP 220 高能量柵極離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 RFICP 220 配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn) 薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中,  佳的離子光學(xué)元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 標(biāo)準(zhǔn)配置下射頻離子源 RFICP 220 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過(guò) 800 mA.

KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術(shù)參數(shù):

型號(hào)

RFICP 220

Discharge 陽(yáng)極

RF 射頻

離子束流

>800 mA

離子動(dòng)能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

10-40 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長(zhǎng)度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000


KRI 射頻離子源 RFICP 220 應(yīng)用領(lǐng)域:
預(yù)清洗
表面改性
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD,
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE

若您需要進(jìn)一步的了解 KRI 射頻離子源, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生                              中國(guó)臺(tái)灣伯東: 王小姐



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