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伯東公司代理霍爾離子源 eH 200

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霍爾離子源 eH 200

KRI 霍爾離子源 eH 200
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KRI 霍爾離子源 eH 200 技術(shù)參數(shù):


<table border="1" cellpadding="0" cellspacing="0" style="border-collapse: collapse; border-spacing: 0px; width: 662px;" width="

型號

eH 200

供電

DC magnetic confinement

 - 電壓

40-300V VDC

 - 離子源直徑

~ 2 cm

 - 陽極結(jié)構(gòu)

模塊化

電源控制

eHx-3005A

配置

-

 - 陰極中和器

Filament or Hollow Cathode

 - 離子束發(fā)散角度

> 45° (hwhm)

 - 陽極

標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved

 - 水冷

 - 底座

移動或快接法蘭

 - 高度

2.0'

 - 直徑

2.5'

 -加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體

 -工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

 - 安裝距離

6-24”

 - 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架; Filamentless; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 200 應(yīng)用領(lǐng)域:
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉積 DD

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上海伯東 : 羅先生                               中國臺灣伯東 : 王小姐
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