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KRI 考夫曼離子源 KDC 160伯東公司代理

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KRI 考夫曼離子源 KDC 160.jpg

KRI 考夫曼離子源 KDC 160
上海伯東代理美國(guó) 進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列最da,離子能量強(qiáng)的柵極離子源, 適用于已知的所有離子源應(yīng)用, 離子源 KDC 160 高輸出設(shè)計(jì),最da電流超過(guò) 1000 mA. 無(wú)需水冷, 降低安裝要求并排除腔體漏水的幾率, 雙陰極設(shè)計(jì),標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過(guò) 800 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

KDC 160

供電

DC magnetic confinement

- 陰極燈絲

2

- 陽(yáng)極電壓

0-100V DC

電子束

OptiBeam™

- 柵極

專用, 自對(duì)準(zhǔn)

-柵極直徑

16 cm

中和器

燈絲

電源控制

KSC 1212

配置

-

- 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

- 安裝

移動(dòng)或快速法蘭

- 高度

9.92'

- 直徑

9.1'

- 離子束

聚焦
平行
散設(shè)

-加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體

-工藝氣體

惰性
活性
混合

-安裝距離

8-45”

- 自動(dòng)控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架

KRI 考夫曼離子源 KDC 160 應(yīng)用領(lǐng)域
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE

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