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VersaSTAT 3-電化學(xué)工作站

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產(chǎn)品概述2A/10V的極化范圍,支持多數(shù)電化學(xué)應(yīng)用:腐蝕、能源、傳感器、生物電化學(xué)

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產(chǎn)品概述

±2A/±10V的極化范圍,支持多數(shù)電化學(xué)應(yīng)用:腐蝕、能源、傳感器、生物電化學(xué)。 2A電流輸出可選,到20A,支持化學(xué)電源、燃料電池、電鍍。 良好的電流測(cè)試精度,用于腐蝕、涂層評(píng)價(jià)以及微電極分析。 內(nèi)建FRA頻響分析儀(可選),支持電化學(xué)阻抗測(cè)試,頻率范圍10μHz1M Hz

 

產(chǎn)品介紹

高性能的V3電化學(xué)工作站將為您的科研帶來(lái)極大的方便。

  • ±2A/±10V的極化范圍,支持多數(shù)電化學(xué)應(yīng)用:腐蝕、能源、傳感器、生物電化學(xué)。
  • 2A電流輸出可選,到20A,支持化學(xué)電源、燃料電池、電鍍。
  • 良好的電流測(cè)試精度,用于腐蝕、涂層評(píng)價(jià)以及微電極分析。
  • 內(nèi)建FRA頻響分析儀(可選),支持電化學(xué)阻抗測(cè)試,頻率范圍10μHz1M Hz VersaSTAT 3 電化學(xué)工作站完成的電化學(xué)測(cè)試技術(shù),可以廣泛使用于腐蝕領(lǐng)域,包含線性極化曲線 Linear Polarization Resistance (LPR), 電化學(xué)阻抗譜Electrochemical Impedance Spectroscopy (EIS), 以及在不同極化水平下的電化學(xué)阻抗譜。
  • 配合VersaStudio軟件的選擇,一系列的伏安法及腐蝕應(yīng)用都可以實(shí)現(xiàn),例如腐蝕中的多種分析技術(shù),線性極化曲線 LPR, 塔菲爾曲線Tafel等。伏安法中的單次及多次循環(huán)伏安,階梯及脈沖伏安。電化學(xué)阻抗譜測(cè)試也可以選擇添加。
  • 是一款由普林斯頓集40多年經(jīng)驗(yàn)全新研發(fā)的滿足多種用途的恒電位/恒電流儀。V3支持進(jìn)行全面的電化學(xué)應(yīng)用,包含腐蝕、能源、傳感器、納米技術(shù)及研究電化學(xué);配備功能強(qiáng)大、應(yīng)用方便的VersaStudio軟件,使V3成為一款在現(xiàn)今市場(chǎng)上性價(jià)比的電化學(xué)工作站。

 

數(shù)據(jù)采集

數(shù)據(jù)采集

3 x 16 bit 500k 樣品/秒 數(shù)模轉(zhuǎn)換 同步電位/電流/輔助

時(shí)間分辨率

10µs (100k 樣品/秒)

自動(dòng)噪音濾波

可用

功率放大器

輸出電壓

±12V

輸出電流

±650mA (標(biāo)配) , ±2A (內(nèi)置選配)

恒電位帶寬

1 MHz

穩(wěn)定性設(shè)定

高速/高穩(wěn)定性 (可根據(jù)具體試驗(yàn)設(shè)置)

切換速度

>8V/µs

上升時(shí)間 (-1.0V to +1.0V)

<350 ns

電位控制 (恒電位模式)

施加電位范圍

±10V

施加電位分辨率

for ±10mV signal = 300nV

for ±100mV signal = 3µV

for ±1V signal = 30µV

for ±10V signal = 300µV

施加電位精度

±0.2% of value ±2mV

掃速

5000 Vs-1 (50 mV step)

掃速范圍及精度

±10V / 300µV

電流控制 (恒電流模式)

施加電流范圍

±650mA (標(biāo)配), ±2A (內(nèi)置選配)

施加電流分辨率

±1/32,000 x 全量程

施加電流精度

±0.2% of reading, ±0.2% of range

電流量程/分辨率

±650mA / 60µA

最小電流量程/分辨率

±200nA / 60 pA

差分靜電計(jì)

輸入范圍

±10V

帶寬

≥10MHz (3dB)

輸入阻抗

≥1012 Ω in parallel with ≤5pF (typical)

漏電流

≤5pA at less than 25°C

CMRR

60 dB at 100kHz (typical)

電位測(cè)量

電位測(cè)量范圍

±10V

最小電位分辨率

6µV

電位精度

±0.2% of reading±2mV

電流測(cè)量

電流測(cè)量范圍

自動(dòng)量程 (8 量程)

650 mA to 200 nA (8 量程)

2A to 200nA (內(nèi)置選配)

電流分辨率

6pA (200nA 量程)

電流精度 (DC)

±0.2% or reading, ±0.2% or range

帶寬

1MHz (signal ≥2mA range typical)

帶寬噪聲濾波功能

阻抗模塊 (EIS) 選件

模式

電位控制/電流控制

頻率范圍

10µHz to 1MHz

最小交流電壓幅值

0.1mV RMS

掃描方式

線性 or 對(duì)數(shù)

iR 補(bǔ)償

正反饋

動(dòng)態(tài) iR 補(bǔ)償

接口 (標(biāo)配)

數(shù)字輸入/數(shù)字輸出

5 TTL logic 輸出, 2 TTL logic 輸入

輔助電壓輸入

同步測(cè)量電壓及電流; ±10V 范圍, 輸入阻抗10kΩ;

Filter: off, 1kHz, 200kHz; BNC connector

數(shù)模轉(zhuǎn)換 電壓輸出 (標(biāo)配)

±10V 范圍, 輸出阻抗1kΩ;

BNC connector (用于攪拌器,旋轉(zhuǎn)盤(pán)電極等)

計(jì)算機(jī) / 軟件

通訊接口

USB模式

操作系統(tǒng)

Windows XP Professional (preferred) or Windows 2000 / VISTA / Windows 7

PC 配置 (至少需求)

Pentium 4 (1GHz) / 1GB memory 高數(shù)據(jù)采集需要大內(nèi)存

軟件

VersaStudio

常規(guī)

電壓

250VA Max. Voltage range 90Vac to 250Vac, 50-60Hz

尺寸(長(zhǎng)X寬X高)

16¼” x 15¼” x 3½”   421 x 387 x 89mm

重量

10lbs, 4.5kgs

使用環(huán)境溫度

10°C to 50°C

濕度

Maximum 80% non-condensing

理想溫度

25°C

Dummy Cell 模擬電解池

內(nèi)置 (DC only)

CE 認(rèn)證

通過(guò)

 

2A 大電流選項(xiàng)

型號(hào)

±2A 大電流選項(xiàng),支持化學(xué)電池、燃料電池及電鍍應(yīng)用

2A/VersaSTAT3

FRA 頻率響應(yīng)選項(xiàng)

內(nèi)置頻率響應(yīng)選項(xiàng),滿足電化學(xué)阻抗分析,頻率范圍10µHz to 1MHz

FRA/VersaSTAT3

高級(jí)混合輸入接口Advanced Auxiliary Interface

 AAI 選項(xiàng),允許附加一個(gè)帶有4個(gè)A/D轉(zhuǎn)換輸入接口,使得Versastudio software 通過(guò)VersaSTAT主機(jī)獲得更多記錄數(shù)據(jù)。

AAI/VersaSTAT3

電流放大器

在電流放大及通常操作模式之間轉(zhuǎn)換,僅需簡(jiǎn)單的電纜連接。

8A/VersaSTAT3

10A/VersaSTAT3

20A/VersaSTAT3

電化學(xué)池選件

Corrosion Cell Kit 腐蝕電解池

K0047

Corrosion Flat Cell 平板電解池

K0235

Micro-Cell Kit 微電解池

K0264

Analytical Cell Kit 分析電解池

RDE0018

Tait Cell 涂層評(píng)價(jià)池

K0307

輔助附件

滴汞儀附件

303A

model 303A 滴汞儀附件接口

507

石英晶體微天平

QCM922

旋轉(zhuǎn)盤(pán)電極

616

旋轉(zhuǎn)環(huán)盤(pán)電極

636

 

VersaStudio 軟件 

四種不同功能的 VersaStudio software造就四種VersaSTAT電化學(xué)綜合測(cè)試系統(tǒng):

  • VersaSTAT100 基本伏安技術(shù)
  • VersaSTAT200 高級(jí)電化學(xué)測(cè)試技術(shù)
  • VersaSTAT300 完整腐蝕測(cè)試技術(shù)
  • VersaSTAT400 全功能電化學(xué)綜合測(cè)試技術(shù)

*的V3Studio軟件支持全系列V3電化學(xué)工作站,包括大電流擴(kuò)展和電流放大設(shè)備。各種系統(tǒng)綜合性的軟硬件結(jié)合,使V3Studio可以致力于各個(gè)領(lǐng)域中的研究,并且通過(guò)不同的預(yù)算不斷升級(jí)。

軟件提供全面、廣泛的電化學(xué)測(cè)試方法,它不但功能強(qiáng)大,而且便于新手學(xué)習(xí)使用。

 

開(kāi)路電位

方波伏安

控制電位阻抗

線性掃描

差分脈沖伏安

控制電流阻抗

循環(huán)伏安 (單次)

常規(guī)脈沖伏安

Loop循環(huán)實(shí)驗(yàn)

循環(huán)伏安 (多次循環(huán))

反相常規(guī)脈沖伏安

延時(shí)功能

階梯線性掃描

零阻計(jì)(電化學(xué)噪聲)

信息提示功能

階梯循環(huán)伏安 (單次)

電偶腐蝕

開(kāi)路電位測(cè)試功能

階梯循環(huán)伏安 (多次)

循環(huán)極化

輔助輸入界面

計(jì)時(shí)電流

線性極化

外部應(yīng)用觸發(fā)

計(jì)時(shí)電位

Tafel塔菲爾曲線

DAC 輸出控制

計(jì)時(shí)電量

恒電位

電極表面預(yù)處理

快速電位脈沖

動(dòng)電位

預(yù)沉積

快速電量脈沖

恒電流

系統(tǒng)平衡

周期電位脈沖

動(dòng)電流

系統(tǒng)凈化

周期電量脈沖

動(dòng)態(tài) iR

iR補(bǔ)償測(cè)量

束蘊(yùn)儀器(上海)有限公司

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  • 使用方法說(shuō)明書(shū)、售后服務(wù)
  • 其他
以上可多選,勾選其他,可自行輸入要求

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