ML-200S涂層測(cè)厚儀儀器特點(diǎn)：
l 采用了磁性和渦流兩種測(cè)厚方法，即可測(cè)量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度又可測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度。
l 具有兩種測(cè)量方式：連續(xù)測(cè)量方式（Free running mode）和單次測(cè)量方式
l 具有三種測(cè)量模式：高精度測(cè)量模式可對(duì)多次測(cè)量取平均，并對(duì)可疑數(shù)據(jù)進(jìn)行自動(dòng)過(guò)濾，可確保測(cè)量值更加準(zhǔn)確、穩(wěn)定；快速測(cè)量模式可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)掃描功能。
l 具有溫度補(bǔ)償功能：實(shí)時(shí)溫度補(bǔ)償技術(shù)可自動(dòng)對(duì)環(huán)境溫度及測(cè)頭溫度改變引起的測(cè)量誤差進(jìn)行補(bǔ)償，使測(cè)量更準(zhǔn)確。
l 設(shè)有五個(gè)統(tǒng)計(jì)量：平均值（MEAN）、Z大值（MAX）、Z小值（MIN）測(cè)試次數(shù)（NO.）、標(biāo)準(zhǔn)偏差（S.DEV）。
l 可采用零點(diǎn)校準(zhǔn)、單點(diǎn)校準(zhǔn)或兩點(diǎn)校準(zhǔn)法對(duì)儀器進(jìn)行校準(zhǔn),并可用基本校準(zhǔn)和溫度系數(shù)校準(zhǔn)法對(duì)測(cè)頭的系統(tǒng)誤差進(jìn)行修正。
l 具有存儲(chǔ)功能：Z多可存儲(chǔ)500個(gè)測(cè)量值。
l 具有刪除功能：對(duì)測(cè)量中出現(xiàn)的單個(gè)可疑數(shù)據(jù)進(jìn)行刪除，也可刪除存儲(chǔ)區(qū)內(nèi)的所有數(shù)據(jù)，以便進(jìn)行新的測(cè)量。
l 可設(shè)置限界：對(duì)限界外的測(cè)量值自動(dòng)報(bào)警。
l 具有電源電量指示功能。
l 操作過(guò)程有蜂鳴聲提示。
l 設(shè)有三種關(guān)機(jī)方式：手動(dòng)關(guān)機(jī)方式、超時(shí)自動(dòng)關(guān)機(jī)方式以及低電量自動(dòng)關(guān)機(jī)方式，并可設(shè)置超時(shí)自動(dòng)關(guān)機(jī)等待時(shí)間
技術(shù)參數(shù)
測(cè)量范圍及測(cè)量誤差
ML-200S涂層測(cè)厚儀技術(shù)參數(shù)表（H為厚度標(biāo)稱(chēng)值）
測(cè)頭類(lèi)型 | F | N |
工作原理 | 磁感應(yīng) | 渦流 |
測(cè)量范圍(μm) | 0～2000 | 0～1500 銅上鍍鉻 0~40 |
低限分辨力(μm) | 0.1 | 0.1 |
示值 | 零點(diǎn)校準(zhǔn)(μm) | ±(3%H+1) | ±(3%H+1) |
兩點(diǎn)校準(zhǔn)(μm) | ±[(1～3)%H+1] | ±[(1～3)%H+1] |
測(cè)試條件 | Z小曲率半徑(mm) | 凸1.5 | 凸3 |
Z小面積的直徑(mm) | Φ7 | Φ5 |
基體臨界厚度(mm) | 0.5 | 0.3 |
使用環(huán)境
l 溫度：0℃～40℃
l 濕度：20%RH～90%RH
l 無(wú)強(qiáng)磁場(chǎng)環(huán)境
電源
l 二節(jié)5號(hào)堿性電池（1.5V）
外型尺寸和重量
l 外形尺寸：151mm×76mm×38mm
