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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱(chēng) 上海智與懋檢測(cè)儀器設(shè)備有限公司
品牌
型號(hào)
所在地 上海市
廠(chǎng)商性質(zhì) 生產(chǎn)廠(chǎng)家
更新時(shí)間 2022/9/29 10:38:04
訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 409

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴(lài)度；傳統(tǒng)的塑膠模具開(kāi)模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開(kāi)模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴(lài)。

光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃是合肥智測(cè)電子有限公司的一款高精度熱敏電阻測(cè)量產(chǎn)品，支持 4 線(xiàn)制熱敏電阻測(cè)量，測(cè)量zuida阻250KΩ。RS485接口支持MODBUS協(xié)議，包括MODBUS RTU 和 MODBUS ACSII 協(xié)議，提供 4 線(xiàn)制熱敏電阻溫度測(cè)量。

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引言
光刻機(jī)（Mask Aligner）又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線(xiàn)的曝光印制到硅片上。
光刻機(jī)工藝是由硅片處理、涂膠、前烘、曝光、后烘、顯影、堅(jiān)膜、檢測(cè)。其中光刻機(jī)的檢測(cè)尤為重要光刻膠在顯影后在烘烤硬化堅(jiān)膜。對(duì)刻蝕和離子注入工藝非常關(guān)鍵。正膠的堅(jiān)膜烘培溫度約為120℃到140℃。溫度太高會(huì)產(chǎn)生光刻膠流動(dòng)。因此溫度對(duì)于光刻的成品率起著重要的決定性因素
光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃介紹

光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃是合肥智測(cè)電子有限公司的一款高精度熱敏電阻測(cè)量產(chǎn)品，支持 4 線(xiàn)制熱敏電阻測(cè)量，測(cè)量zuida阻值250KΩ，精度±0.02℃。RS485接口支持MODBUS協(xié)議，包括MODBUS RTU 和 MODBUS ACSII 協(xié)議，NTC 測(cè)量模塊采用 24V 直流電壓供電，提供 4 線(xiàn)制熱敏電阻溫度測(cè)量，用戶(hù)可輸入 NTC 特征參數(shù)，精度可達(dá)±0.02℃。模塊配備了 RS485 通訊接口，支持 MODBUS 協(xié)議，可提供用戶(hù)二次開(kāi)發(fā)。獨(dú)立的電源開(kāi)關(guān)可單獨(dú)控制模塊供電。

光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃應(yīng)用
光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃廣泛應(yīng)用于電子、半導(dǎo)體、LED、空調(diào),冰箱、冷柜、熱水器、飲水機(jī)、暖風(fēng)機(jī)、洗碗機(jī)、消毒柜、洗衣機(jī)、烘干機(jī)等家電設(shè)備上、汽車(chē)空調(diào)、水溫傳感器、進(jìn)氣溫度傳感器、發(fā)動(dòng)機(jī)、開(kāi)關(guān)電源、UPS不間斷電源、變頻器、電鍋爐等
智能馬桶,電熱毯等
光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃性能
●靈敏度高,響應(yīng)速度快
●精度高
●具有良好的絕緣密封性和抗機(jī)械碰撞

光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭 ±0.01℃優(yōu)勢(shì)
小巧便捷
獨(dú)立電源鍵
支持4線(xiàn)制熱敏電阻測(cè)量

半導(dǎo)體生產(chǎn)涂膠機(jī)高精度測(cè)溫模塊、半導(dǎo)體生產(chǎn)涂膠機(jī)高精度測(cè)溫儀、半導(dǎo)體生產(chǎn)涂膠機(jī)溫度探頭、半導(dǎo)體生產(chǎn)涂膠機(jī)溫度傳感器、光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度測(cè)溫模塊、光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度測(cè)溫儀、光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭、光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)溫度傳感器、浸沒(méi)式光學(xué)系統(tǒng)高精度測(cè)溫模塊、浸沒(méi)式光學(xué)系統(tǒng)高精度測(cè)溫儀、浸沒(méi)式光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭、浸沒(méi)式光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度傳感器、光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度測(cè)溫模塊、光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度測(cè)溫儀、光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度探頭、光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)高精度溫度傳感器、半導(dǎo)體裝備超潔凈流體溫度檢測(cè)高精度測(cè)溫模塊、半導(dǎo)體裝備超潔凈流體溫度檢測(cè)高精度測(cè)溫儀、半導(dǎo)體裝備超潔凈流體溫度檢測(cè)高精度溫度探頭、半導(dǎo)體裝備超潔凈流體溫度檢測(cè)高精度溫度傳感器、半導(dǎo)體裝備流控系統(tǒng)溫度檢測(cè)高精度測(cè)溫模塊、半導(dǎo)體裝備流控系統(tǒng)溫度檢測(cè)高精度測(cè)溫儀、半導(dǎo)體裝備流控系統(tǒng)溫度檢測(cè)高精度溫度探頭、半導(dǎo)體裝備流控系統(tǒng)溫度檢測(cè)高精度溫度傳感器