大口徑射頻離子源 RFICP 380
上海伯東美國 KRi 大口徑射頻離子源 RFICP 380, 3層?xùn)艠O設(shè)計, 柵極口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200eV 寬束離子束, zui大離子束流 > 1000mA, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用. 廣泛應(yīng)用于離子束刻蝕機.
KRi 射頻離子源 RFICP 380 特性
1. 放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時間更長. 2kW & 1.8 MHz, 射頻自動匹配
2. 離子源結(jié)構(gòu)模塊化設(shè)計
3. 離子光學(xué), 自對準(zhǔn)技術(shù), 準(zhǔn)直光束設(shè)計, 自動調(diào)節(jié)技術(shù)保障柵極的使用壽命和可重復(fù)的工藝運行
4. 全自動控制器
5. 離子束動能 100-1200eV
6. 柵極口徑 38cm, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用
射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)規(guī)格:
陽極 | 電感耦合等離子體
2kW & 1.8 MHz
射頻自動匹配 |
zui大陽極功率 | >1kW |
zui大離子束流 | > 1000mA |
電壓范圍 | 100-1500V |
離子束動能 | 100-1200eV |
氣體 | Ar, O2, N2,其他 |
流量 | 5-50sccm |
壓力 | < 0.5mTorr |
離子光學(xué), 自對準(zhǔn) | OptiBeamTM |
離子束柵極 | 38cm Φ |
柵極材質(zhì) | 鉬 |
離子束流形狀 | 平行,聚焦,散射 |
中和器 | LFN 2000 |
高度 | 38.1 cm |
直徑 | 58.2 cm |
鎖緊安裝法蘭 | 12”CF |
射頻離子源 RFICP 380 基本尺寸:
上海伯東美國考夫曼 KRI 大口徑射頻離子源 RFICP 220, RFICP 380 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸磁存儲器刻蝕機, 8英寸量產(chǎn)型金屬刻蝕機中, 實現(xiàn) 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蝕工藝, 適用于 IC, 微電子,光電子, MEMS 等領(lǐng)域.
作為蝕刻機的核心部件, KRI 射頻離子源提供大尺寸, 高能量, 低濃度的離子束, 接受客戶定制, 單次工藝時間更長, 滿足各種材料刻蝕需求!
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上海伯東: 羅先生
