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意力博通系列離子濺射

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    儀器名稱:全自動離子濺射儀    型號:ETD-800
    原理:二極直流濺射






    儀器名稱:離子濺射儀 型號:ETD-900M
    原理:磁控濺射
    在磁控濺射中,由于運(yùn)動電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運(yùn)動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)
    生螺旋運(yùn)動,其運(yùn)動路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時,經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽極時,已變成低能電子,從而不會使基片過熱。

    ETD-800參數(shù):
    主機(jī)規(guī)格:260mm×307mm×260mm(W×D×H)
    電源規(guī)格:220V/50HZ
    靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)
    靶材:Au
    真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 115mm×100mm(D×H)
    定時器: 最長時間:3600S
    機(jī)械泵: 1L/S

    電壓:-1200  DCV


    ETD-900M參數(shù):
    主機(jī)規(guī)格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)
    靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)
    靶材:Au(標(biāo)配)
    樣品室:硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm(D×H)
    靶材尺寸:Ф 50mm
    真空指示表: 真空度:≤ 4X10-2 mbar
    離子電流表: 電流:50mA
    定時器: 最長時間:0-360S ?
    微型真空氣閥:可連接φ 3mm 軟管
    可通入氣體: 多種
    電壓: -1600 DCV ?
    機(jī)械泵:標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S(國產(chǎn) VRD-8)

    ETD-800用途:

    適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備。

    特點(diǎn):

    可以通過更換不同的靶材(金、鉑、銀等),以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。

    一鍵式操作,使用方便。



    ETD-900M用途:

    適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

    特點(diǎn):
    1、簡單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美。
    2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
    3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
    4、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路。
    5、同時可以通過更換不同的靶材(金、鉑、銥、銀、銅等),以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。
    6、通過通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。



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