典型應(yīng)用

氮化物, 云母, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 石板, 礦物, 硼化物, 碳化物, 粘土, 金屬, 陶瓷, 骨頭

優(yōu)點(diǎn)

• 研磨過程中晶格被保留。
• 粒徑分布窄。
• 幾乎沒有交叉污染。
• 緊湊、桌面型機(jī)型
• 可調(diào)研磨功率(4步)
• 適合于干磨和濕磨。
• 清洗方便。
• 免維護(hù)。
• 運(yùn)行安靜。

技術(shù)參數(shù)

應(yīng)用	搗磨、混和與研磨制樣；干磨或濕磨
應(yīng)用領(lǐng)域	X射線衍射
樣品特征	中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的
進(jìn)樣尺寸	<0.5毫米
最終出料粒度 *	< 1 µm
網(wǎng)頻50赫茲（60赫茲）下的轉(zhuǎn)速	1,000 - 1,500 min-1 4步
研磨平臺數(shù) (可接納研磨罐數(shù))	1
典型粉碎時間	3 - 30 min
干磨	是
濕磨	是
低溫研磨	無
研磨套件材料：	瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石
研磨罐尺寸	125 ml
粉碎時間設(shè)定	數(shù)字顯示，00:00:01 至 99:59:50
驅(qū)動	DC-Motor
驅(qū)動功率	50W
電源數(shù)據(jù)：	100-240 V, 50/60 Hz
電源接頭：	單相
防護(hù)類型	IP 30
接受功率	100W
機(jī)體尺寸（寬x高x縱深）	205 x 155 x 520 mm
凈重	~19 kg
標(biāo)準(zhǔn)	CE

作用原理

XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排，每排6件。 在運(yùn)行過程中，罐子做圓周運(yùn)動，研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平（通常小于10 um）。 由于研磨過程很溫和，所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線衍射分析樣品制備的優(yōu)異選擇。