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荷蘭4PICO 激光直寫光刻機(jī) PicoMaster200

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PicoMaster 200無(wú)掩模激光直寫光刻機(jī)●250納米分辨率(375納米激光源)●300納米分辨率(405納米激光源)●4095灰階●業(yè)界實(shí)力的成套全息設(shè)計(jì)軟件●230x230毫米基板尺寸 PicoMaster 200 是一款具有超高精度組件的多功能紫外激光寫入器,專為用戶提供在感光層中創(chuàng)建自由度的微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。

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PicoMaster 200無(wú)掩模激光直寫光刻機(jī)


●250納米分辨率(375納米激光源)

●300納米分辨率(405納米激光源)

●4095灰階

●業(yè)界實(shí)力的成套全息設(shè)計(jì)軟件

●230x230毫米基板尺寸


        PicoMaster 200 是一款具有超高精度組件的多功能紫外激光寫入器,專為用戶提供在感光層中創(chuàng)建自由度的微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。系統(tǒng)的光柵化工作原理,搭配上高速掃描以及可調(diào)螺距步進(jìn)激光頭,確保了整個(gè)曝光制程在感光層表面準(zhǔn)確而穩(wěn)定地完成。PicoMaster 200 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻,LED芯片,微流控芯片,微納結(jié)構(gòu),灰度光刻 ,三維加工全息影像等多個(gè)領(lǐng)域。


系統(tǒng)優(yōu)點(diǎn):

系統(tǒng)支持高達(dá)4095級(jí)的灰度、純二進(jìn)制模式;

系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)精度小于250納米,線寬均勻性小于50納米;

系統(tǒng)支持9英寸基版,400毫米/秒掃描速度,200x200毫米曝光面積;

系統(tǒng)采取全封閉結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),必需的部件、控制架構(gòu)和真空泵都在外殼內(nèi),便于快速安裝;

統(tǒng)連接到空氣溫度調(diào)節(jié)器機(jī)組開始供應(yīng)空調(diào)空氣時(shí),內(nèi)置堆式過濾器將產(chǎn)生干凈的交叉氣流;      

系統(tǒng)運(yùn)動(dòng)平臺(tái)由機(jī)械緩振系統(tǒng)支撐,它將過濾掉絕大多數(shù)的噪音振動(dòng),以確保工作時(shí)的振動(dòng)最小


激光直寫:

系統(tǒng)使用405納米(可升級(jí)375納米)激光源在感光層上曝光,不需訂購(gòu)或制作掩模,圖案可隨用戶設(shè)計(jì)而改變;

系統(tǒng)不使用掩模版,只需在基版上涂膠后用紫外激光聚焦進(jìn)行曝光,激光在靶區(qū)被連續(xù)地調(diào)制到規(guī)定的劑量;    

光刻膠在激光照射下會(huì)改變其化學(xué)結(jié)構(gòu),曝光后很容易溶解在顯影劑中,只需暴露部分區(qū)域就可以形成目標(biāo)的圖案。

                     





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