簡(jiǎn)要描述：光學(xué)鍍膜橢偏儀ME-L 是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入，其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù)，包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等?？蓱?yīng)用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析。

名   稱：光學(xué)鍍膜橢偏儀

型   號(hào)：ME-L 

品   牌：頤光

光學(xué)鍍膜橢偏儀在手機(jī)蓋板中的應(yīng)用

光學(xué)鍍膜就好比女士化妝，不僅可使玻璃蓋板、背板更漂亮，也可以起到抗氧化、耐酸堿等作用，所以在如今這個(gè)“看臉”的時(shí)代，蓋板的光學(xué)鍍膜是非常重要的，目前常見的包括AR、AF、AG及后蓋顏色膜等鍍膜應(yīng)用。

 光學(xué)鍍膜橢偏儀蓋板光學(xué)鍍膜痛點(diǎn)分析

1、AR膜透過率不合格NG

2、顏色膜調(diào)色困難，周期長(zhǎng)。

3、量產(chǎn)過程產(chǎn)品不穩(wěn)定，存在色差。

橢偏儀在光學(xué)鍍膜各階段的作用

造成蓋板光學(xué)鍍膜產(chǎn)品不良的主要因素在于：

A；仿真設(shè)計(jì)調(diào)用材料折射率與鍍膜生產(chǎn)中實(shí)際材料折射率不符。

B；鍍膜設(shè)備實(shí)際鍍層厚度與膜系設(shè)計(jì)要求不符。

C；量產(chǎn)過程對(duì)鍍膜設(shè)備穩(wěn)定性/均勻性缺乏有效評(píng)估手段。

橢偏儀可以有效測(cè)量修正上述影響因子，為蓋板量產(chǎn)保駕護(hù)航。

1：膜系設(shè)計(jì)——膜層實(shí)際折射率的標(biāo)定

★鍍膜實(shí)際折射率的影響因素：供氧量、真空度、電子槍光斑大小、溫度等

★橢偏儀可直接測(cè)量獲得薄膜材料的光學(xué)常數(shù)和薄膜厚度，因此通過鍍膜機(jī)在Si襯底或玻璃襯底上鍍單層SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜，可直接準(zhǔn)確測(cè)量獲得薄膜的光學(xué)常數(shù)。

★通過調(diào)整鍍膜機(jī)參數(shù)，以橢偏儀測(cè)量獲得的單層SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜光學(xué)常數(shù)為反饋，將薄膜材料光學(xué)常數(shù)調(diào)整至狀態(tài)。此時(shí)對(duì)應(yīng)的鍍膜機(jī)參數(shù)即為厚度鍍膜時(shí)所需設(shè)定的終參數(shù)。

2：工藝研發(fā)——鍍膜設(shè)備tolling校正

★通常來說，鍍膜機(jī)通過晶振來控制鍍膜厚度，而實(shí)際上由于這種晶振式膜厚儀的精度不足，導(dǎo)致實(shí)際鍍膜厚度與設(shè)定鍍膜厚度存在較大偏差。在鍍膜機(jī)中，可通過工具因子（Tooling值）控制鍍膜機(jī)的蒸鍍速率，進(jìn)而可對(duì)實(shí)際鍍膜厚度進(jìn)行調(diào)控。

★橢偏儀可以準(zhǔn)確測(cè)量獲得薄膜的厚度，因此可用于校正鍍膜機(jī)的工具因子（Tooling值），使實(shí)際鍍膜厚度與設(shè)定鍍膜厚度*。

3；量產(chǎn)監(jiān)控——實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)各項(xiàng)鍍膜指標(biāo)

★鍍膜膜厚是否在設(shè)計(jì)范圍。

★材料折射率有無顯著波動(dòng)。

★透過率是否滿足工藝需求。

★色度值是否滿足工藝需求。

★反射率是否滿足工藝需求。

光學(xué)鍍膜橢偏儀售后服務(wù)：

1、廠家貨源

   貨源有保障，可以根據(jù)客戶不同測(cè)試需求，提供不同測(cè)試方案。

2、關(guān)于售后

   4小時(shí)電話響應(yīng)，24小時(shí)內(nèi)安排。終生維護(hù)。

3、關(guān)于發(fā)貨

   到款4-5天內(nèi)到貨，江蘇、深圳區(qū)域第二天可以到貨。