產(chǎn)品特色
動(dòng)畫
● 非接觸、非破壞式，量測(cè)頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)
● 初學(xué)者也能輕松解析建模的初學(xué)者解析模式
● 高精度、高再現(xiàn)性量測(cè)紫外到近紅外波段內(nèi)的反射率，可分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）
● 單點(diǎn)對(duì)焦加量測(cè)在1秒內(nèi)完成
● 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外 ~ 近紅外）
● 獨(dú)立測(cè)試頭對(duì)應(yīng)各種inline定制化需求
● 最小對(duì)應(yīng)spot約3μm
● 可針對(duì)超薄膜解析nk
量測(cè)項(xiàng)目
●反射率分析
●多層膜解析（50層）
●光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）
膜或者玻璃等透明基板樣品，受基板內(nèi)部反射的影響，無(wú)法正確測(cè)量。OPTM系列使用物鏡，可以物理去除內(nèi)部反射，即使是透明基板也可以實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。此外，對(duì)具有光學(xué)異向性的膜或SiC等樣品，也可不受其影響，單獨(dú)測(cè)量上面的膜。
（編號(hào) 第 5172203 號(hào)）
應(yīng)用范圍
● 半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體：硅半導(dǎo)體、碳化硅半導(dǎo)體、砷化鎵半導(dǎo)體、光刻膠、介電常數(shù)材料
● FPD：LCD、TFT、OLED（有機(jī)EL）
● 資料儲(chǔ)存：DVD、磁頭薄膜、磁性材料
● 光學(xué)材料：濾光片、抗反射膜
● 平面顯示器：液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED
● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等
● 其它：建筑用材料、膠水、DLC等
量測(cè)案例
半導(dǎo)體行業(yè) - SiO2、SiN膜厚測(cè)定案例
半導(dǎo)體工藝中，SiO2用作絕緣膜，而SiN用作比SiO2更高介電常數(shù)的絕緣膜，或是用作CMP去除SiO2時(shí)的阻斷保護(hù)，之后SiN也被去除。絕緣膜的性能像這樣被使用時(shí)，為了精確的工藝控制，有必要測(cè)量這些膜厚度。
FPD行業(yè) - 彩色光阻膜厚測(cè)定
彩色濾光片薄膜的制程中，一般將彩色光阻涂布在整個(gè)玻璃表面，通過(guò)光刻進(jìn)行曝光顯影留下需要的圖案。RGB三色依次完成此工序。
彩色光阻的厚度不恒定是導(dǎo)致RGB圖案變形、彩色濾光片顏色偏差的原因，因此對(duì)彩色光阻的膜厚管理非常重要。
FPD行業(yè) – 用傾斜模式解析ITO構(gòu)造
ITO膜是液晶面板等使用的透明電極材料，制膜后需經(jīng)過(guò)退火處理(熱處理)提升導(dǎo)電性和透光性。此時(shí)，氧狀態(tài)和結(jié)晶性發(fā)生變化，使得膜厚產(chǎn)生階段性的傾斜變化。在光學(xué)上不能看作是構(gòu)成均一的單層膜。
對(duì)這樣的ITO用傾斜模式，由上部界面和下部界面的nk值，對(duì)傾斜程度進(jìn)行測(cè)量。
半導(dǎo)體行業(yè) – 使用界面系數(shù)測(cè)定粗糙基板上的膜厚
如果基板表面非鏡面且粗糙度大，則由于散射，測(cè)量光降低且測(cè)量的反射率低于實(shí)際值。
通過(guò)使用界面系數(shù)，因?yàn)榭紤]到了基板表面上的反射率的降低，可以測(cè)量出基板上薄膜的膜厚值。
DLC涂層行業(yè) – 各種用途DLC涂層厚度的測(cè)量
DLC(類金剛石)涂層由于其高硬度、低摩擦系數(shù)、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性以及與其他材料的親和性等特征，被廣泛用于各種用途。
采用顯微光學(xué)系統(tǒng)，可以測(cè)量有形狀的樣品。此外，監(jiān)視器一邊確認(rèn)檢查測(cè)量位置一邊進(jìn)行測(cè)量的方式，可以用于分析異常原因。
