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超高真空兼容系統(tǒng)微波等離子源

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可選用氧氣、氮?dú)?、氬氣等作為反?yīng)氣體,進(jìn)行表面處理清潔、表面反應(yīng)。

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

應(yīng)用領(lǐng)域:

試樣表面碳污染處理,腔體內(nèi)壁面清潔,材料表面濺射處理。

作用機(jī)理:

(1)物理清潔:為離子轟擊,清潔強(qiáng)度取決于離子動(dòng)能。所有種類的氣體均可充入,氬氣清潔作用。

(2)化學(xué)清潔:氧氣充入后產(chǎn)生電離反應(yīng),帶有化學(xué)活性的氧離子可以對(duì)表面的污染物進(jìn)行反應(yīng),達(dá)到清潔作用。

參數(shù):

材質(zhì):不銹鋼
供電電壓: AC220V
功率: 整機(jī)功率不超過150W

工作氣壓: 5~50Pa
安裝接口規(guī)格: DN35CF刀口法蘭

系統(tǒng)漏率: 5X10-11Pa*M3/S

可烘烤溫度:120°C

微波等離子源通氣實(shí)拍

氧氣:


氬氣:


氮?dú)猓?img src="https://img67.86175.com/5eceadd4559dcfd273c6abb1e0c1d02ff2d1167f47d046cdc14822ca3314756eb75885e01d05ebaa.png" alt="">


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