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等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）

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具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱 東莞市卓聚科技有限公司
品牌
型號
所在地 東莞市
廠商性質(zhì) 其他
更新時間 2024/5/21 16:22:41
訪問次數(shù) 126

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

產(chǎn)品簡介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)（PECVD），符合CE認證標準的三溫區(qū)CVD系統(tǒng)，生長樣品腔的管徑60-120mm，它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與供氣系統(tǒng)、機械泵、真空密封及測量系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)組成，極限真空度可達10^-5torr

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等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)（PECVD），符合CE認證標準的三溫區(qū)CVD系統(tǒng)，生長樣品腔的管徑60-120mm，它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與供氣系統(tǒng)、機械泵、真空密封及測量系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)組成，極限真空度可達 10^-5 torr 。

主要特點：

1，優(yōu)勢在于各種薄膜材料、低維納米材料等的制備（尤其適用于過渡金屬二維半導體材料的生長與原位摻雜，以及多元二維材料的生長）

2，可選配遠程等離子射頻發(fā)生系統(tǒng)，可用于各種薄膜材料、低維納米材料等的等離子體輔助生長、刻蝕加工與材料表面修飾（尤其適用于石墨烯、氮化硼等二維材料的無催化生長，缺陷調(diào)控，以及器件制作工藝中的殘膠去除）

3，生長工藝設(shè)計，能滿足任意襯底無催化生長

4，應(yīng)用案例（點擊跳轉(zhuǎn)）

設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)

溫控參數(shù)		單位
溫度	1200	℃
功率	6.5	kw
溫控精度	±1	℃
真空系統(tǒng)
真空泵	1 x 10^-3 (7.5 x 10^-4)	mbar (Torr)
真空泵(開氣鎮(zhèn))	1.5 x 10^-2 (1.1 x 10^-2)	mbar (Torr)
真空泵(使用PEPE 油)	1 x 10^-2(7.5 x 10^-3)	mbar (Torr)
腔體內(nèi)真空度	優(yōu)于2.0_*10^-2	Torr
流量控制參數(shù)
泄露率	＜4×10^-9	atm-cc/secHe
分辨率	全量程的0.1%
響應(yīng)時間氣特性	<2	s
響應(yīng)時間電特性	500	ms
尾氣吸收參數(shù)
材質(zhì)	殼體鋁合金、不銹鋼
吸氣腔	聚四氟乙烯
等離子體系統(tǒng)參數(shù)
功率輸出	5 – 300，5 – 500	W
信號頻率	13.56 ±0.005%	MHz
反射功率	200	W
功率穩(wěn)定度	±0.1%
諧波分量	≤-50	dbc
供電電壓	187V – 253V —- 頻率50/60HZ