產(chǎn)品介紹：
專用掃描透射顯微鏡HD-2700，配備了與德國CEOS GmbH公司(總經(jīng)理Max Haider先生)共同開發(fā)的球差校正儀，顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能，更適合高級納米技術(shù)研究。由于球差校正系統(tǒng)校正了限制電子顯微鏡的性能的球差，使其與標(biāo)準(zhǔn)型號顯微鏡相比，分辨率提高了1.5倍，同時，探針電流提高了10倍。
最近，該顯微鏡還配備了高分辨率鏡頭和冷場發(fā)射電子槍，進一步提高了圖像分辨率和電子束能量分辨率。同時，該型號系列還增加了一款不帶球差校正的主機配置，可以以后加配球差校正進行升級。
高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像
1、HAADF-STEM圖像0.136 nm，F(xiàn)FT圖像0.105 nm(高分辨率鏡頭*)
2、HAADF-STEM圖像0.144 nm(標(biāo)準(zhǔn)鏡頭)
3、明場掃描透射電子顯微鏡圖像0.204 nm(w/o球差校正儀)
高速，高靈敏度能譜分析：探針電流×10倍
1、元素面分布更迅速及時
2、低濃度元素檢測
操作簡化
1、自動圖像對中功能
從樣品制備到觀察分析實現(xiàn)無縫連接
1、樣品桿與日立聚焦離子束系統(tǒng)兼容
配有各種選購件可執(zhí)行各種評估和分析操作
1、同時獲取和顯示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布*和DF/EELS面分布*圖像。
2、低劑量功能*(使樣品的損傷和污染程度降至)
3、高精度放大校準(zhǔn)和測量*
4、實時衍射單元*(同時觀察暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像和衍射圖案)
5、采用三維微型柱旋轉(zhuǎn)樣品桿(360度旋轉(zhuǎn))*，具有自動傾斜圖像獲取功能。
6、ELV-3000即時元素面分布系統(tǒng)*(同時獲取暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像)
* ：選購件
技術(shù)指標(biāo)：
HD-2700球差校正掃描式透射電子顯微鏡
| 項目 | 描述 |
| 圖像分辨率 | w/o球差校正儀 | 保證 0.204 nm(當(dāng)放大倍數(shù)為4,000,000時) |
| w球差校正儀 | 保證 0.144 nm(當(dāng)放大倍數(shù)為7,000,000時)(標(biāo)準(zhǔn)鏡頭) |
保證 0.136 nm(HAADF圖像)
保證 0.105 nm(通過FFT)(當(dāng)放大倍數(shù)為7,000,000時)(高分辨率鏡頭*) |
| 放大倍數(shù) | 100倍 至 10,000,000倍 |
| 加速電壓 | 200 kV, 120 kV * |
| 成像信號 | 明場掃描透射電子顯微鏡：相襯圖像(TE圖像)
暗場掃描透射電子顯微鏡：原子序數(shù)襯度圖像(Z襯度圖像)
二次電子圖像(SE圖像)
電子衍射*
特征X射線分析和面分布(能譜分析)*
電子能量損失譜分析和面分布(EV3000)* |
| 電子光學(xué)系統(tǒng) | 電子源 | 肖特基發(fā)射電子源 |
| 冷場致發(fā)射器* |
| 照明透鏡系統(tǒng) | 2-段聚光鏡鏡頭 |
| 球差校正儀* | 六極鏡頭設(shè)計 |
| 掃描線圈 | 2-段式電磁感應(yīng)線圈 |
| 原子序數(shù)襯度收集角控制 | 投影鏡設(shè)計 |
| 電磁圖像位移 | ±1μm |
| 試片鏡臺 | 樣品移動 | X/Y軸 = ±1 mm, Z軸 = ±0.4 mm |
| 樣品傾斜 | 單軸-傾斜樣品桿：±30°(標(biāo)準(zhǔn)鏡頭), ±18°(高分辨率鏡頭*) |
| 真空系統(tǒng) |
| 3個離子泵，1個TMP |
| 極限真空 | 10-8 Pa(電子槍), 10-5 Pa(樣品室) |
| 圖像顯示 | 個人電腦/操作系統(tǒng) | PC/AT兼容, Windows® XP |
| 監(jiān)視器 | 19-inch液晶顯示器面板 |
| 圖像幀尺寸 | 640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素 |
| 掃描速度 | 快掃，慢掃(0.5至320秒/幀) |
| 自動數(shù)據(jù)顯示 | 記錄序號，加速電壓，下標(biāo)尺，日期，時間 |
* 選購件
