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蔡司公司推出的Sigma 500場發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統(tǒng)設計，分辨率超過0.8nm，為您提供優(yōu)秀分辨率和分析性能科研平臺。Sigma500專注于的EDS幾何學設計使您可以獲取的分析性能。借助Sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡化分析程序、提高工作效率。您會比以往更快、更多的獲取數(shù)據(jù)。多種探測器的選擇使Sigma500可以精準的匹配您的應用程序：您可以獲取微小粒子、表面、納米結構、薄膜、涂層和多層的圖像信息。
用于清晰成像的靈活探測：
◆利用探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
◆利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
◆利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環(huán)境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。
自動化加速工作流程：
◆4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
◆首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
◆接下來對樣品感興趣的區(qū)域進行優(yōu)化并自動采集圖像。最后使用工作流程的步，將結果可視化。
高級分析型顯微鏡：
◆將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合：Sigma 的背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。
◆在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。
◆8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結果。
靈活的檢測器選項，獲取清晰圖像：
◆使用新穎的ETSE和Inlens探測器在高真空下獲取高分辨率表面形貌信息。
◆使用VPSE或C2D檢測器在可變壓力模式下獲得清晰圖像。
◆使用aSTEM檢測器生成高分辨率透射圖像。
◆使用HDBSD或YAG檢測器分析成分。
技術參數(shù)：
| 分辨率： | 1.0nm@30kV STEM | 1.0nm @15 kV | 1.8nm @1kV |
| 加速電壓 | 0.02—30KV | ||
| 放大倍數(shù) | 10—1000000x | ||
| 探針電流 | 調整范圍：0.02-30 kV（無需減速模式實現(xiàn)） | ||
| X-射線分析工作距離 | 8.5mm 35度接收角 | ||
| 低真空壓力范圍 | 2-133Pa （Sigma 300VP可用） | ||
| 工作室 | 365 mm（φ），275mm（h） | ||
| 5軸優(yōu)中心自動樣品臺 | X=125mm Y=125mm Z=50mm T=-10°- 90°R=360°連續(xù) | ||
| 系統(tǒng)控制 | 基于Windows 7 的SmartSEM操作系統(tǒng) | ||
| 存儲分辨率 | 32,000 x 24,000 pixels | ||
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